小型固体ナノ秒レーザ『AVIA LX シリーズ』

PRコストパフォーマンスに優れた小型ワンボックス構造のパルスUV・Gree…

『AVIA LX シリーズ』は、高パルスエネルギー発振でありながら、小型・軽量・ 低価格設定を実現する産業用固体ナノ秒パルス発振のUV・Greenレーザです。 出荷されるすべてのAVIA LXはHASS/HALT試験による動作検証を行っており、 さらにUVモデルは非線形(THG)結晶を内製化することにより、寿命と性能の向上および ランニングコストの低減を実現しています。 【特長】AVIA LX...

メーカー・取り扱い企業： コヒレント・ジャパン株式会社 本社、大阪支店、厚木TEC

仮固定、位置合わせでお困りの方、プレーンセットUV熱併用タイプ

PR・UVによる仮固定、アクティブアライメントが可能 ・UV未照射部は8…

・UV照射により仮固定が可能でアクティブアライメントが可能 ・UV未照射部は後から熱による効果が可能 　3000mJ/cm2＋80℃30分 ・硬化物は低弾性体となり、接着性、応力緩和性、衝撃耐性に優れる。 ・低粘度でディスペンスにて染み込みやすい液性...※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 味の素ファインテクノ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-1

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。 ...【特徴】 ○大気圧作動であるため真空システムが不要 ○コンパクト設計 ○操作が簡単、メンテナンスが容易 ○低コスト ●その他機能や詳細につ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-300H

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300Hは、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。本装置は従来のUV/O3処理に比べ、高速処理が可能です。 ...【特徴】 ○従来のUV/O3処理に比べ、高速処理（200～300nm/min）が可能 ○非貴金属系触媒...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

UVオゾンクリーナー　UV-300

UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー

UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。 ...【特徴】 ○基板回転機構の採用により均一な処理が可能 ○基板径はφ370mmあり、大面積または多数枚の試料処理が可能 ○非貴金属系触媒のオゾン除去器を内蔵して...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社