【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 205

粘着性フラックスを除去することで、ボイドのないアンダーフィルに！画像解…

『ATRON AC 205』は、基板からフラックス残渣を除去するため 設計されたFASTテクノロジー系の洗浄剤です。 当製品はより短い処理時間かつ長寿命。 特に短い処理時間が要求される高圧インライン洗浄装置に好適。 また、パワーLEDやフリップチップパッケージ、CMOS、 BGAにも効果を発揮します。 【特長】 ■先進の鉛フリー・共晶はんだフラックス残渣などをより素早く除...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体向けフラックス洗浄剤】VIGON PE 215N

効果的なリンスにより、銅基板の再酸化を防ぐ！活性化された銅基板を長期間…

『VIGON PE 215N』は、スプレー洗浄装置用として専用設計された 中性の水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーにより、パワーエレクトロニクス部品から フラックス残渣を確実に除去することができ、特にダイアタッチ後や ヒートシンクはんだ付け後のパワーモジュールの洗浄に好適。 また、材料適合性と銅酸化膜除去に優れており、次工程の ワイヤボンディング/接着ボンディングやモールディ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系フラックス洗浄剤】ATRON AC 207

インラインまたはバッチ式洗浄装置にて高中水圧で使用可能！

『ATRON AC 207』は、FASTテクノロジーを基に特に低濃度で処理するため 開発された洗浄剤です。 一般的な界面活性剤系洗浄剤の洗浄性と液寿命を向上させ、 特に感作性が高い金属に対応できるよう開発されました。 マイルドな組成で低濃度仕様のため、当製品はアルミ、真鍮、ニッケル等 のような感作性が高い金属に対し優れた材料適合性を示します。 【特長】 ■低濃度・低温でも...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【基板実装の基礎知識】基板洗浄について(1)

基板洗浄と代替フロン「洗浄液アサヒクリンAK-225」についてご紹介

「Ky技報」は、ケイワイ電子工業で行う製造業務全般の技術情報や 特殊対応などを掲載している技術資料です。 。 第030号では『基板洗浄について（１）』をご紹介しています。 はんだ付け実装後に共晶製品及び洗浄指定製品は 「フラックス洗浄」という精密洗浄を行っています。 フラックス洗浄に使用されている、 代替フロンHCFC-225『アサヒクリンAK-225』は 2019年末に販...

メーカー・取り扱い企業： ケイワイ電子工業株式会社