アモルファス | イプロスものづくり

ポリマー・樹脂の物性値予測を高速・高精度で支援するGPU援用高速分子動…

力場パラメータを開発することにより様々な分子構造に対応します。架橋樹脂を含む多様なポリマー構造ビルダー #ホモポリマー #ブロックコポリマー #ランダムコポリマー #デンドリマー #アモルファス構造作成 #インタラクティブな架橋構造作成機能 #半結晶性高分子構造 #複数のポリマーや低分子の混合状態 #異種材料間の界面構造など物性予測・解析ツール #密度/凝集エネルギー密...

メーカー・取り扱い企業：シュレーディンガー株式会社

半導体プロセス＆デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロス…

) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), ...

メーカー・取り扱い企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社

半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター　PICS3D

新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), ...

メーカー・取り扱い企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社

半導体デバイス用汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトAPSYS

多種多様な材料や物理モデルを用意、様々な解析が可能な半導体デバイスシミ…

) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), ...

メーカー・取り扱い企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社

【資料】有機エレクトロニクス

有望な候補物質を判別！デバイス最適化の条件に適合するような化合物の選定…

アモルファス構造や結晶構造の正孔(ホール)移動度と電荷(チャージ)移動度に関しては、Marcus(マーカス)理論に基づいた2種類の異なる方法(kinetic Monte Carlo(動的モンテカルロ)法と、Electronic Coupling(電子カップリング)に基づいた方法)を使用して計算可能です。また、スピン-軌道カップリングを考慮したTDDFT計算を使用して、分子の光吸収や発光を予測すること...

メーカー・取り扱い企業：シュレーディンガー株式会社

第一原理計算材料シミュレーションmatelierPHASE/0

第一原理計算による材料シミュレーション「matelier PHASE/…

ow-k、強誘電体、圧電体） / 磁性体（強磁性体、ハーフメタル） / 有機化合物（分子性結晶） / 金属（合金） / 鉱物 / セラミックス / ナノカーボン（グラフェン、ナノチューブ） / アモルファス（半導体酸化膜など） / 遷移金属カルコゲナイド　など【主な適用業界様】大学、公的研究機関 / 半導体、電子材料 / 電機 / 化学 / 鉄鋼 / その他（繊維、非鉄金属、ゴム...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アスムス

PICS3D(Fabry-Perot Edition)

2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム(旧…

) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), ...

メーカー・取り扱い企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社

動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア（SASAMAL）

イオン注入、あるいはスパッタリング現象そのものに関する計算を行うことが…

『動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア（SASAMAL）』は、 2体衝突近似に基づくモンテカルロ法によるシミュレーションコードです。 アモルファスターゲットに高エネルギーのイオンが入射した際のスパッタリング率、スパッタリング原子の放出角度分布・エネルギー分布、入射粒子の後方散乱する割合・角度分布・エネルギー分布、イオンのターゲ...

メーカー・取り扱い企業：ペガサスソフトウェア株式会社

受託測定サービス　軟磁性材の素材やモータなどの磁気特性

磁気測定に必要な磁束密度波形制御装置、バイポーラ電源を準備！短期間に測…

嵌め・溶接の影響・ステータコア損失分布 ■標準測定・磁気シールドルームの利用・微少部X線応力測定装置・JIS C 2550-1 エプスタイン試験・JIS C 2535 アモルファス磁気試験・IEC 60404-3 単板磁気試験器・JIS C 2501 永久磁石試験 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ブライテック本社／大分生産本部

ソフトウェア『Siroquant V4.0 software』

様々な鉱物の標準のない定量的相分析！結晶構造データのないミネラルをサポ…

た、フルプロファイルリートベルト法を使用して形状を調整します。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【主な機能(一部)】 ■様々な鉱物の標準のない定量的相分析 ■優先配向、アモルファス性、異常分散、吸収コントラスト補正をサポート ■1800以上の一般的なミネラル相をサポート ■クレイパックフェーズをサポート ■能力はオンデマンドで追加のミネラルをサポート ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業：株式会社B7

【動画】半導体デバイス用2D/3D解析・設計ソフトAPSYS

多種多様な材料や物理モデルを用意、様々な解析が可能な半導体デバイスシミ…

) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), ...

メーカー・取り扱い企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社

【動画】半導体レーザ用3Dデバイスシミュレーター　PICS3D

モード、光学利得、光強度、スペクトル、キャリア分布、バンド、波動関数な…

) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), ...

メーカー・取り扱い企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社

【動画で紹介！】Materials Studioの活用方法（1）

古典分子動力学計算による液体、ポリマーの物性予測「密度の計算」

当社では、Materials Studioの活用方法について紹介したビデオ（3分版）を公開しています。『Materials Studio』では、低分子液体やアモルファスポリマーのモデリング・シミュレーションを行って様々な物性値を予測することが可能です。本ビデオでは、その中でも古典分子動力学計算による密度の計算方法をデモを交えてご紹介します。密度は基本的...

メーカー・取り扱い企業：ダッソー・システムズ株式会社

【動画】半導体プロセス＆デバイスシミュレータ「NovaTCAD」

2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロス…

) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), ...

メーカー・取り扱い企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社

【動画】PICS3D(Fabry-Perot Edition)

2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム（旧…

) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.) ■絶縁体 (air(空気), ...

メーカー・取り扱い企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社