ガラススクライバー【MHS-500S】

PRMHS-300Sでは対応できなかった第二世代までのマザーガラスに対応の…

研究・開発向けの半自動ガラススクライバーです。 スクライブパターンの登録が４種類まで可能です。 自動運転の場合、処理が完了すると、ブザー鳴動してお知らせします。 カッターは、切込み量と圧力の２つの調節が行えます。 一連の処理が完了すると自動で真空破壊されるので、段取り替えが容易です。 安全仕様として、安全カバー、インターロック、非常停止、吸着センサーが 標準で装備されています。 .....

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イーエッチシー

切削液の腐敗防止でコスト削減！高pHアルカリイオン水生成装置

PR切削液にアルカリイオン水を混ぜるだけで【切削液の腐敗防止】【加工効率を…

「高pHアルカリイオン水生成装置」は廃液なしで、pH13.2の高pHアルカリイオン水を1日80L～240L生成することができる装置です。 高pHアルカリイオン水は【高い浸透性】【冷却性】【水の腐敗防止効果】【洗浄力】といった特長があり、 切削・研削時にクーラント（切削油）に混ぜるだけで加工効率が向上します。 また、高い冷却効果によって加工時に発生する摩擦熱が抑えられるため、工具寿命の延長...

メーカー・取り扱い企業： クール・テック株式会社

低溶出対策フィルター『EPPシリーズ』

多様なろ過精度が選択可能！コストパフォーマンスに優れたデプスプリーツフ…

接着剤を使用していない為、金属イオンの溶出量が電子産業の要求レベルを 満足しているフィルターです。 ナノファイバーろ材により、高流量と長寿命を実現。耐薬品性に優れており、 各種の酸、アルカリ、溶剤のろ過に適しています。 また、0.1μm～25μmの多様なろ過精度が選択可能です。 【特長】 ■高純度ポリプロピレン樹脂を採用 ■金属イオンの溶出量が電子産業の要求レベルを満...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社

【脱メタル】半導体材料向け金属除去製品を幅広くラインナップ

金属汚染のリスク低減に！「薬液の品質に影響が…」「強アルカリ水溶液や酸…

材からの金属汚染のリスクにさらされ、半導体製造プロセスの工程の不安定化や歩留まり低減を引き起こします。 Cobetterでは、新規機能膜の開発やフィルタ構造の最適化により、困難とされてきた強アルカリ水溶液や酸性溶液からの金属除去が高効率で達成可能になるIonGardシリーズやリソグラフィ工程に使用される薬液に適したNylonpolarやMGS2Mシリーズ、またガス向けに開発されたGasPur...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社

五層焼結金属網『CSSCシリーズ』

シンプルなロール構造！当社の五層焼結金属網をご紹介

大使用差圧：0.3MPa ■最高使用温度：480℃ ■直径：Φ65mm ■ろ過面積：0.047m2/10" ■洗浄方法：洗剤逆洗浄、クリーンガス逆洗浄、超音波洗浄、 　洗剤洗浄(希酸・希アルカリ・酸化剤・界面活性剤)など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社