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ロータリーダイシリンダー、ロータリーダイユニット<テスト受付中>
PR安定した切れ味と長寿命化を実現。高剛性ダイユニットは刃先のクリアランス…
当社は、紙からチタンまで様々な素材を加工する 技術と製品を有し、多岐にわたる事業を展開しています。 主力製品の1つとして製造を手掛ける「ロータリーダイシリンダー」は、 高精度マシニング加工と独自製法により、安定した切れ味と長寿命化を実現。 印刷、食品包装、医薬品包装、電池、半導体製造など 幅広い分野で採用されており、お客様の生産性向上に貢献しています。 また、本製品を搭載した「...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三條機械製作所
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フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』
PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…
『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績(20…
ラズマ表面改質の優位点】 ■目的とする表面エネルギー(接触角)をコントロールできる ■活性種ガス(OHラジカル等)の侵入部分の細部まで処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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従来比50%の性能UP!低N2消費(約45%削減)の大気圧プラズマ装置
イ処理のため乾燥工程不要 ■接触角(表面エネルギー)をコントロールできる ■活性ガス(各種ラジカル)処理なので、不織布や繊維束内部まで処理が可能。 ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■パーティクルフリー ■排ガス処理も不要 ■処理表面への物理的、電気的、熱的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマにおけるダメージを与えない表面機能性付与の新提案
大気圧、ダウンストリーム型プラズマを用いることにより表面ダメージ等を排…
【掲載内容の一部をご紹介】 <大気圧プラズマ装置から発生する種々のダメージ> (1)誘導電圧(電流)発生に伴う絶縁破壊等 (2)紫外光(有機素材特性変化) (3)表面粗れ(表面粗化またはエッチング) (4)パーティクル発生 (5)静電気発生(集塵効果・絶縁破壊・チャージアップダメージ) (6)アーク及びストリーマ (7)熱(処理中) 処理形態やワークによってそのダメージは、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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"大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…
に官能基や水酸基、アミン基を付与し、 濡れ性や、塗布性能、有機物除去等の処理が可能になります。 添加ガスを変えることにより、選択的に付与される分子を生成され、 撥水化、還元等、薄膜体積、ドライエッチング等の処理が可能になります。 また、洗浄工程や、メッキ処理時前にプラズマ処理を行うことで、 処理表面を活性化し薬液との反応性を高め洗浄性能の向上や 気泡の除去等に役立ちます。 処理に関してワーク...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上!炭素繊維を高…
ライ処理のため乾燥工程(ドライプロセス)が不要 ■目的とする接触角をコントロールできる ■活性ガス(OHラジカル)の侵入部分全て処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」
ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置
【大気圧プラズマ装置の優位点】 ■ドライ処理のため乾燥工程が不要 ■目的とする接触角をコントロールできる ■活性ガス(各種ラジカル)の侵入部分全て処理ができる ■添加ガス変更で、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への電気的、物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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大気圧プラズマ装置を用いた効率的な繊維束状用表面改質方法
面改質の優位点】 ■ドライ処理のため乾燥工程が不要 ■目的とする接触角をコントロールできる ■活性ガス(OHラジカル等)の侵入部分全て処理ができる ■種々のガスを添加することで、撥水・還元処理やエッチング、CVD装置プラズマソースとして簡便に使用できる ■コンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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