• 高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置 製品画像

    高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置

    PR【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

    【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし! ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム (オプション) 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能! 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 『半導体薬液』なら弘田の製品! 製品画像

    『半導体薬液』なら弘田の製品!

    高品質な半導体薬液をリーズナブルな価格で!貴社の仕様に合わせた、オーダ…

    【製品ラインアップ】 ■単酸 弗化水素酸、弗化アンモニウム溶液、塩酸、硝酸、硫酸、過酸化水素水 ■混酸類  TH-H、NC-1C、エッチング液(SiO2,AI,Mo,Ti,etc) ■CMPスラリー  W,Cu用スラリー、各種分散剤 ■界面活性剤  帯電防止剤、濡れ向上剤、E/R抑制剤 ■その他  レジスト剥離液(PUMS...

    メーカー・取り扱い企業: 弘田化学工業株式会社 東京工場

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