作業のマルチワークテーブル＆収納のマルチパーツハンガーで効率改善

PRシステム製品代表格２商品でこんなに効率UPできるってホント？作業効率U…

＜マルチワークテーブル＞ ●６種類の天板サイズと豊富なオプションにより、多種多様な作業内容・作業者に合わせてカスタマイズできる作業台です。 ●足元から頭上まで、自由な位置に必要なオプションを取り付けることで効率的な作業を実現できます。 ●５０ｍｍピッチのスリット穴付き支柱が作業者の身長に合わせてベストポジションの作業高さを提供します。 【カタログ（チラシ）をダウンロードしていただくとQRコードから...

メーカー・取り扱い企業： 山金工業株式会社 ルート営業部

高性能パネルベンダー『TruBend Center』

PR追従作業、材料反転作業不要！ 1名での重量、長尺加工を可能にした高性能…

『TruBend Center』は、高剛性のフレーム構造とバリエーション豊かな金型により 軟鋼で板厚3.2mm、ステンレスで板厚2.0mm、アルミで板厚4.0mmまで曲げ加工が行える高性能パネルベンダーです。 角度曲げ、R曲げ、ヘミング、2重曲げは、金型交換不要で、標準金型で加工可能。 標準装備の金型自動交換装置により、段取り時間を大幅に削減 高精度、高生産性を実現します。 【特長】 ■軟鋼...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーシ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

【UHV対応 真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお…

容易 ● 取り扱いが簡単（M6スタッドボルト、支柱） 【標準付属品】 ● 熱電対：K素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き（*C, Rの場合は別売） ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外素線も用意しております（W, Nb, Mo, Pt/Re, WRe） ● 取付ブラケット ● ホルダー設置用タップ穴加工...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲…

◆コントロールボックス仕様◆ ・プログラム温度調節計 ・DC電源装置 ・電流、電圧計 ・チャンバー開閉SW（リニアモータドライブ駆動） ・ヒーターSW ・主電源SW ◆オプション◆ ・真空排気系 ・特注るつぼ 他...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

H4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ）による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア（オプション）によるリモート制御, データ解析 【主仕様】 ◉ Φ2.5inch（標準）Φ4inch x12inch石英反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ 試料サイズ：10x10mm, （Φ2...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

・到達真空度：1x10-2Pascal（*但し空炉の場合） ・一次側電源仕様：AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水：8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆オプション◆ ・真空排気系：ロータリーポンプ, 高真空ポンプ, バルブ類...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

実験炉・ヒーター_「PRODUCTS GUIDE_2022」

電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用 最新の高温基板…

◉ 超高温実験炉シリーズ： ※3種類のヒーター素線オプションを用意 ・C/Cコンポジット ・SiC3立方晶炭化珪素コーティンググラファイト ・TiC3チタンカーバイドコーティンググラファイト ◉ BH基板加熱ヒーター： 大気/高真空中/ガス雰囲...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

ントまでを自動シーケンス制御（標準） ・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能） ・高真空対応（ターボ分子ポンプ） ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転（オプション） ・自動APC制御（オプション）： -1) Upstreamコントロール：MFC供給量をPIDループ自動制御、又は -2) Downstre...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

・到達真空度：1x10-2Pascal（*但し空炉の場合） ・一次側電源仕様：AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水：8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆オプション◆ ・真空排気系：ロータリーポンプ, 高真空ポンプ, バルブ類...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲…

◆コントロールボックス仕様◆ ・プログラム温度調節計 ・DC電源装置 ・電流、電圧計 ・チャンバー開閉SW（リニアモータドライブ駆動） ・ヒーターSW ・主電源SW ◆オプション◆ ・真空排気系 ・特注るつぼ 他...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

・到達真空度：1x10-2Pascal（*但し空炉の場合） ・一次側電源仕様：AC200V 50/60HZ 三相 50A NFB ・冷却水：8L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆オプション◆ ・真空排気系：ロータリーポンプ, 高真空ポンプ, バルブ類...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社