【CO2・温湿度・PM・VOC】多彩な測定項目【CD2シリーズ】

PR『CO2や空気中に含まれる見えない粒子』を数値化してみませんか？クリー…

VERIS社製『CD2シリーズ』は、ダクトやチャンバー内の 計測や制御に使用される 多項目測定CO2 センサです。 非分散型赤外線方式（NDIR）により、高精度で長期安定性に優れた計測を行います。 また、特許取得の自己校正機能により、ドリフトの補正を自動的に行い、 長期間のメンテナンスフリーを実現します。 当シリーズでは、CO2、温度、湿度、VOC、PM を組み合わせた型式をご用意しております...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パーソンズエンジニアリング

高性能パネルベンダー『TruBend Center』

PR追従作業、材料反転作業不要！ 1名での重量、長尺加工を可能にした高性能…

『TruBend Center』は、高剛性のフレーム構造とバリエーション豊かな金型により 軟鋼で板厚3.2mm、ステンレスで板厚2.0mm、アルミで板厚4.0mmまで曲げ加工が行える高性能パネルベンダーです。 角度曲げ、R曲げ、ヘミング、2重曲げは、金型交換不要で、標準金型で加工可能。 標準装備の金型自動交換装置により、段取り時間を大幅に削減 高精度、高生産性を実現します。 【特長】 ■軟鋼...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）