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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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独自の安全機構でガス充満による酸欠事故を防止『グローブボックス』
PR真空装置メーカーの技術・経験を結集!自社設計により柔軟な仕様変更とリー…
当社では、不純物ガス濃度1ppm以下の高純度環境を実現する 『グローブボックス』を設計・製造・販売しております。 内部のガス圧力が一定範囲になるよう制御するAPC機構や、 グローブ・圧力計の破損時に異常を検知してガス供給を停止するセイフティ機構を標準搭載。 グローブボックスの豊富な知識・経験を活かし、各種カスタマイズも承ります。 【特長】 ■自社設計により柔軟な仕様変更とリ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイエルエステクノロジー
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フィルム保管の問題を解消!工業分野のさまざまな要求を満たした設計となっ…
【ラインアップ】 ■大型、ハイコントラスト、多目的用途向け「DXR140P-HC」 ・石油、ガスおよびエネルギー分野における腐食監視目的に好適 ・140μmのピクセル分解能を持ち、ハイコントラストを実現 ■小型、高分解能、重要用途向け「DXR75P-HR」 ・微細な違いの識別が高度に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社KS-NET
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特に風味が重要な調味料・乳製品・食用油・粉物・ビール等、製造時…
東葛テクノ株式会社