フラッシュランプアニーリング装置　FLA

半導体など各種材料に！数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

リング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをすることが可能です。非常に短いパルス（マイクロ/ミリ秒レベル）のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の膜のアニ－リング処理等に使用できる研究開発用の小型装置です。コンパクトで使い勝手がよく、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

最大4インチ角基板対応 手動露光機

光 分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ200W, 350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性 標準：±4.0%(標準) MO Exposure Optics：±2.5%(オプション) ・アライメント方...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

ョンフラッド露光分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性: ±2.5% ・アライメント方式 TSAアライメント(表面アライメント) BSAアライメント IRアライ...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

ウエキコーポレーション　ガストータルソリューション

ガス設備設計・製作・施工、ガス使用現場のトータル管理、高圧ガス・特殊ガ…

・ガス販売 工業用ガス：窒素、酸素、水素、アルゴン、ヘリウム、二酸化炭素、一酸化炭素etc 燃料用ガス：プロパン、n - ブタン、液化天然ガス（LNG） etc 半導体・液晶用ガス：キセノン、ネオン、クリプトン、各種混合ガス 標準ガス：大気汚染測定用、ガス検知器校正用、自動車排ガス測定用、石油化学工業用 ・ガス機器販売 ガス機器：ガス発生装置、ガス精製装置、ガス混合装置、ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウエキコーポレーション

高出力紫外線照射装置『UVflasher TX2000』

瞬時の硬化を実現！パルス発光による環境配慮型高出力紫外線照射装置！自動…

『UVflasher TX2000』は、紫外線を強力なパルス発光により照射し、 連続発光方式と比べて熱の発生が少なく、遥かに短い時間で 樹脂の硬化を実現した紫外線照射装置です。 キセノンガスを使用しているので、環境負荷が少なく、発光電圧、 発光パルス数などを目的に合わせて容易に設定変更が可能。 専用ソフトが標準で付属されているので、導入後直ちに使用できます。 当製品は...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タクト

光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク