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クリーンな環境に!ポバール興業 タイミングベルト 搬送用ベルト
PR食品、化学、医薬品などのクリーンな環境に。特長・種類・構造なども解説!…
ポバール興業「ウレタンタイミングベルト」「搬送用ベルト」のご紹介です。 ▼ウレタンタイミングベルト お客様のご要望にさらにきめ細かくお答えすべく、新シリーズの 追加、他素材との接着組み合わせ、プロフィル加工など大幅な品種・加工技術の拡大を実施。 【掲載内容(一部)】 ■概要 ■ベルト品種・寸法一覧 ■ウレタンタイミングベルトプロフィル付 ■伝動能力表 ■選定・設計 ▼搬送用ベルト 1.クリ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社椿本マシナリー
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PRハロゲンランプヒーターより放射される光(近赤外線)を照射し、高温・急速…
近赤外線ヒーター ヒートビームシリーズは、特殊高効率ハロゲンランプから照射される近赤外線を利用し、ライン状やスポット状または、面状の熱源が得られるヒーターユニットです。 反射鏡は特殊金メッキを施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱と2mm~3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイベック
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電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。R&D用の多目的小型研究用から…
半導体・MEMS・各種電子部品(センサー、水晶振動子等)の研究開発から本格量産まで幅広く対応する標準型蒸着装置のラインナップ。 全機種クリーンルーム、クリーンバキューム対応で各種選択機構を装備。 実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。 蒸発源・加熱温度・基板機構(プラネタードーム・公転ドーム)操作・ロギングソフト 全てカスタ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたSiC(シリコンカーバイド)膜をPVD…
成膜を実現。 400℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたSiC膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くCVDに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニングコストの全てに優れた新成膜装置 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種 簡易ロードロックタイプで化合…
】 ■バッチタイプ ・全手動化し低コスト化 ・小型基板での少量生産に充分なプロセス性能を実現 ・ハードの信頼性と膜質の安定性を実現 ■簡易ロードロックタイプ ・手動搬送機構を装備 ・クリーンで高い真空性能 ・均一な膜厚・プラズマ・加熱分布性能 ・高結晶性窒化膜(AlN)や高反射率金属膜の形成が可能 ・紫外LED用AlNテンプレート作成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ウェハやガラス等の多種基板の処理可能 幅広い用途対応した可変雰囲気熱処…
スト内容などにつきましてはお問い合わせください。 【特長】 ■各種雰囲気(真空、N2、O2、H2)での均一な加熱処理(~900℃) ■加熱炉体の移動による急速冷却 ■石英チューブによるクリーン雰囲気中処理 ■幅広い用途への対応 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子…
00mmの本格量産タイプまで対応。 加熱温度も常用350℃(最高450℃)の半田付タイプから最高900℃の多用途対応タイプまでラインナップ 雰囲気ガスもN2にも対応。 炉内クラス100以下のクリーンタイプもオプション対応 社内にデモ機も常設、初期テストからプロセスをサポート。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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非球面レンズのDLC膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…
ジに均一なプラズマを実現したプラズマクリーニング装置。 従来機「POEM」よりイオンエネルギーを向上。より強いイオン衝撃とO2イオンでDLCを除膜。ドライプロセスで基板ダメージと廃液処理の不要なクリーンプロセスを実現。 プラズマエッチングで蓄積されたマルチガスプロセスで多様なDLC膜の除去に対応するとともに微細加工モールドの作成にも実績。DLCだけでなく有機膜エッチングや石英の微細エッチングに...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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小型電子部品(面実装タイプ)の側面電極形成をドライ化。PVD(イオンプ…
面実装タイプの受動電子部品(抵抗器・コンデンサ)などの側面電極をドライプロセスで形成。 廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Sn、Ni等の金属膜をハイスループットで形成。(酸化膜形成にも対応) 実績豊富なハードと独自の成膜プロセスで小型電子部品の生産プロセスのドラ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 C…
緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やSiC膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜(酸化膜・炭化膜)を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…
横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム&大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。 拡張機能により6インチウェハまで対応。 水素雰囲気還元熱処理に加え高真空アニールや...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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