• 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • 高精度 電子・車載分野フィルムの抜き加工【クリーンルームあり】 製品画像

    高精度 電子・車載分野フィルムの抜き加工【クリーンルームあり】

    PR5G、EV化などに関連する電子分野や車載分野を中心にした【高精度 抜き…

    弊社では「5G」「EV化」などに関連する電子分野や車載分野への対応から、「脱プラ」「脱炭素」に関連して要求される各種素材、またその他にも医療分野や雑貨・日用品分野など様々な業界に対応する取り組みを実施。 クリーンルームを完備しており、 電子分野で求められる高精度な抜き加工やスリット加工の実績が多数あります。 ロール材でもシート材でも加工が可能で、特殊加工も承ります。 また、汎用品・特殊...

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    • FireShot Capture 335 - クリーン対応|紙・フィルム類の素材調達、加工のことなら三愛株式会社 - sanai-3377.co.jp.png
    • FireShot Capture 336 - クリーン対応|紙・フィルム類の素材調達、加工のことなら三愛株式会社 - sanai-3377.co.jp.png
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    メーカー・取り扱い企業: 三愛株式会社

  • 超純水用フィルター『トリンジック UPW』 製品画像

    超純水用フィルター『トリンジック UPW』

    15 nm、20 nm、0.1 μm、0.2 μmの粒子除去が可能な高…

    『トリンジック (Trinzik) UPW』は、設備および装置で使用する超純水の高性能ろ過向けに設計されたクリーン度の高いフィルターです。 ディフェクトの原因となる粒子を除去する信頼性の高い高流量対応のフィルターで、半導体、ハードディスクドライブ製造、フラットパネルディスプレイ(LCD、LED、OLED...

    メーカー・取り扱い企業: 日本インテグリス合同会社

  • 希酸/希アルカリ用超精密ろ過フィルター『トリンジック HCE』 製品画像

    希酸/希アルカリ用超精密ろ過フィルター『トリンジック HCE』

    高純度な希酸/希アルカリの薬液ろ過用親水性フィルター

    ンブレン ■小孔径のメンブレン設計 ■メンブレンを除く構成部材がポリプロピレン(PP) ■高流量性能を実現し、運用コストを削減 ■高度な粒子除去により歩留まりが向上 ■抽出物が低減され、クリーンなろ過が実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本インテグリス合同会社

  • 溶剤用超精密ろ過フィルター『トリンジック HCO』 製品画像

    溶剤用超精密ろ過フィルター『トリンジック HCO』

    20 nm、0.05 μmの粒子除去が可能な溶剤処理用フィルター(疎水…

    ■20 nm, 0.05 μm ■メンブレン: PTFE、その他の構成部材:ポリエチレン ■高流量を実現し、運用コストが削減可能 ■優れた粒子除去性能 ■フィルターからの抽出物が少なく、クリーンなろ過を実現可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本インテグリス合同会社

  • 溶剤/希酸/希アルカリ用超精密フィルター『トリンジック HCM』 製品画像

    溶剤/希酸/希アルカリ用超精密フィルター『トリンジック HCM』

    高純度な溶剤、希酸、希アルカリの薬液ろ過用フィルター (疎水性)

    ンブレン ■小孔径のメンブレン設計 ■メンブレンを除く構成部材がポリプロピレン(PP) ■高流量性能を実現し、運用コストを削減 ■高度な粒子除去により歩留まりが向上 ■抽出物が低減され、クリーンなろ過が実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日本インテグリス合同会社

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