• 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

    • 2022-10-27_13h55_12.png
    • 2022-10-27_13h55_22.png
    • 2022-10-27_13h55_29.png
    • 2022-10-27_13h55_35.png
    • 2022-10-27_13h55_57.png
    • 2022-10-27_13h56_06.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • レーザーマーカー『UBI Basic』 製品画像

    レーザーマーカー『UBI Basic』

    PR安全性が高いClass1製品仕様!高出力パフォーマンスでリーズナブルな…

    『UBI Basic』は、アルミ・鉄・SUS等の金属部品、工具、銘板などの 小・中型ワーク向けの高出力でコストパフォーマンスに優れたレーザーマーカーです。 一品一様のマーキング工程に適しており、独自のMicro aWave レーザーソースにより様々な対象物にマーキングが可能。 Z軸ボタンによりステージの昇降、電磁式インターロックを 標準搭載、正面スタートボタンで簡単にマーキング開...

    • 2022-10-13_09h25_21.png
    • 2022-10-13_09h25_33.png
    • 2022-10-13_09h25_42.png
    • 2022-10-13_09h26_07.png
    • 2022-10-13_09h26_13.png
    • 2022-10-13_09h26_21.png
    • 2022-10-13_09h26_28.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東陽 グローバル商品課

  • High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置 製品画像

    High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

    半導体、MEMS、電子部品等に!単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

    【仕様(抜粋)】 ■基板サイズ:最大φ12インチ ■スパッタカソード:マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源:RFまたはDC ■プロセスガス:Ar、O2、N2、他 ■基板ステージ  ・基板加熱:700℃(基板表面)  ・自転:最高20rpm ■真空排気  ・構成1:TMP+...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 立体物用スパッタリング装置 製品画像

    立体物用スパッタリング装置

    立体物成膜での高いカバレッジを実現! 最大3台のスパッタカソードを搭…

    【仕様(抜粋)】 ■ワークサイズ:最大φ5インチ×高さ40mm  形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください ■スパッタカソード:マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源:RFまたはDC ■プロセスガス:Ar、O2、N2、他 ■真空排気:TMP+RP ■圧力制御:APC制御 ■制御操作  ・制御:PLC  ・操作:タッチパネルまたはP...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 修正デザイン2_355337.png
  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg

PR