• LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置 製品画像

    LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

    ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

    ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ4” 厚みについては応相...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」 製品画像

    省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」

    1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

    各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを1チャンバーで行う枚葉装置です。 1つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ:シリコン、石英、酸化物、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」 製品画像

    シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

    1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置!洗浄方法の…

    各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を1つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇ シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇ Si(シリコン)、LT(リチウムタンタレート)やSiC(炭化ケイ素)他、   各種ウェハに対応 ◇ 異物(有機物・無機物)の除去、金属イオンの除去 ◇ 洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置 製品画像

    小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置

    ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置!独自機構の表…

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」 製品画像

    ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

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