平板型赤外線加熱炉　IR-FP Series

赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合…

は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、ま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社米倉製作所