• マシニングセンタ用 高精度バイス『ディペンドバイスシステム』 製品画像

    マシニングセンタ用 高精度バイス『ディペンドバイスシステム』

    PR高精度で自在性に優れた汎用バイス。加工物に合わせてクランプセッティング…

    高精度バイス『ディペンドバイスシステム』は、 対象加工物に合わせて自在にクランプセッティングが可能で、 使用治具の削減、治具の載せ替え段取り時間の削減に貢献する製品です。 油圧源や動力を必要としないシンプルな構造で、扱いやすくメンテナンスも容易。 キャップボルト1本を締め付けるだけで、1.2tから2.0t程度(50mm幅タイプ)の 締め付け力を得られ、ワーク2個を同時に締め付けること...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イズミコーポレーション

  • 【サーキットブレーカー】CBXM-200シリーズ 製品画像

    【サーキットブレーカー】CBXM-200シリーズ

    PRシンプルな構造で海外などの過酷な環境に好適!

    『CBXM-200シリーズ』は、バイメタルを利用した熱動式の サーキットブレーカーです。 直接電流を流すことにより、過電流が流れたときに回路を遮断させ、 ボタンを押すことによって回路がつながり再度電流を流せます。 大型で頑丈に出来ていますので、振動の多い所や環境変化の厳しいところ での使用にも耐えられます。 【特長】 ■高耐久 ■温度差に強い ■大電流対応 ■シンプ...

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    メーカー・取り扱い企業: 電波精器株式会社

  • 小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』 製品画像

    小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

    小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

    『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアッ...

    メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 簡易実験用スパッタリング装置 製品画像

    簡易実験用スパッタリング装置

    手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種 簡易ロードロックタイプで化合…

    当製品は、基礎研究から先端プロセスの開発までカバーする シンプルでコストパフォーマンスの高いスパッタリング装置です。 全手動化し低コスト化したバッチタイプと手動搬送機構を装備した 簡易ロードロックタイプの2機種をラインアップ。両機種とも上位機種の プ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 導電性カーボン薄膜形成装置(アーク放電スパッタリング装置) 製品画像

    導電性カーボン薄膜形成装置(アーク放電スパッタリング装置)

    導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温(400℃以下)で不活性…

    独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法(ADMS法)によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応 導電性カーボン薄膜は硬度や表面の平滑性に優れており、金属への高い密着性より機械部品の表面処理(トライボロジー用途)への応...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 超高真空スパッタリング装置(STM2323型) 製品画像

    超高真空スパッタリング装置(STM2323型)

    先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…

    C方式による完全自動運転で研究開発作業の効率化を実現いたします。 高効率強磁性体用カソードやワイドエロージョンカソードなど成膜機構も選択でき、基板や目的に合わせて個別要求にご対応いたします。 シンプルな装置構成にも対応可能、リーズナブルなコスト対応を実現いたします。 上位仕様としてクラスタタイプの搬送室も装備可能でアニールや蒸着などの異種プロセス室も搭載可能な進化型スパッタリング装置です。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • コンパクト!同時蒸着!高拡張性!『真空蒸着装置・HEXシリーズ』 製品画像

    コンパクト!同時蒸着!高拡張性!『真空蒸着装置・HEXシリーズ』

    ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…

    HEXシステムにはスパッタリングソース、抵抗加熱蒸着源、電子ビーム蒸着源、 有機物蒸着源の4種類の成膜ソースが用意されており、 最大3台を同時に取り付け可能です。 シンプルなコーティングから複雑な多層膜まで広範なアプリケーションに 対応します。 60cm x 60cmにおさまる非常にコンパクトな真空チャンバーなので、 電源ラックや実験台の上に設置可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社

  • AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置) 製品画像

    AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置)

    UV-LED用AlNテンプレートをスパッタで。高い結晶性とC軸配向性を…

    UV-LEDの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのAlNテンプレートをスパッタで作成。100arc/sec以下のC軸配向性を持つAlN膜を低温(700℃以下)でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でUV-LEDの低コスト化に貢献。 サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 実験用スパッタ装置 製品画像

    実験用スパッタ装置

    簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

    ョンにて3系統まで対応可)、   マスフローコントローラーによる調整 ● 酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ● オプションにて基板ヒーターの取付可。 ● 余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ● 800W×600L×900Hの省スペース ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤシマ

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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