DDS機能を搭載した任意波形発生器『AWG』

PRQuantum Computingに好適！信号生成アプリケーションに有…

『AWG』は、発生する信号を、直接qubitに印可または、AOM、AOD、EOMに 印可してレーザ制御を行うことにより、qubit内の量子操作とqubitの状態の 読み出し処理ができる任意波形発生器です。 DDS(Direct Digital Synthesis)機能を備えており、デバイスを簡単な コマンドで高速に制御できるため、高速かつ複雑な各種量子操作が可能。 また、qubi...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エレクトロニカIMT事業部

アドバンスト電動ドライバー『KL-TCC/SGT-CC』

PR角度エンコーダー・DCサーボモーター搭載、電流制御でトルクの締め分けが…

『KL-TCC/SGT-CC』は、角度エンコーダーを搭載した電流制御式の アドバンスト電動ドライバーです。 ある一定のトルクが掛かった時点で角度の計測を始めるため、確度の 高い締付け不良検出を実現。 締め付けトルク等をJOBに登録でき、締め付け結果と同時に部品番号も 記録可能です。また、トルク/回転速度等の可変は「バーコード」 「専用ソフト」「イーサネット」で切替えできます。 ...

メーカー・取り扱い企業： キリウスジャパン株式会社

精密研磨装置『MA-300e』

インターロックカバーもご用意！研磨作業の更なる効率化を実現しました

。 自動試料保持ユニットを3ヶ所に取り付けることにより、研磨作業の 更なる効率化を実現。 また、搖動装置を装着することにより、研磨精度の向上および研磨盤の 平坦度の維持が見込め、シーケンス制御のプログラムを採用しており、 研磨工程のレシピを一括管理可能です。 【特長】 ■3インチや4インチ等、大きな試料を研磨する際に好適 ■自動試料保持ユニットを3ヶ所取り付け、研磨作...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

CCPプラズマエッチング装置『CCP-T60M/B2M』

高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工！プロセスガスからラジカルを選択的に…

グ装置です。 プロセスガスからラジカルを選択的に生成し、低電子温度、高密度プラズマが 得られる60MHzパワーを上部電極に印加。 また、常に適切なエッチングプロセス条件が維持されるシーケンスプログラムを 内蔵しています。 【特長】 ■平行平板型エッチング装置 ■高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現 ■プロセスガスからラジカルを選択的に生成 ■60MHzパワーを上...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

RSコマンダ

RSコマンダ

導体製造装置，液晶製造装置，その他制御装置などで使用されている搬送ロボットの通信データを収集、その通信データをエクセル・シートのセル上に記述（レシピ感覚です。）する事で、搬送ロボットの単軸動作，シーケンス動作，繰返し動作等の任意動作が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイブル

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート：真空・パージ（3 cycle）〜 ベントまでを自動シーケンス制御（標準） ・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能） ・高真空対応（ターボ分子ポンプ） ◆オプション◆ ・フルオ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

OPV用蒸着装置『KVD-OLED Evo.6』

コンパクトな設計を実現！有機蒸着源を4台標準搭載した蒸着装置

クス（MBRAUN社製Labmaster）と接続でき、 ロードロック室間は手動の搬送機構で操作可能。 排気操作は前面のタッチパネル(PLC)により操作できます。 【特長】 ■排気シーケンスはPLCにて制御可能 ■金属の蒸着はボート式とルツボ式を標準搭載 ■膜厚計は3センサーを標準搭載 ■金属蒸着源はボート式とルツボ式を標準搭載 ■蒸着室はメンテナンスが容易な防着板を標準搭...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

精密片面ラッピングマシーン『LJ-36型』

バルブ用メカニカルシール、建設機械用部品、難切削材料等のラッピング加工…

【仕様】 ■制御方式：リレーシーケンス制御 ■操作パネル：メカニカルスイッチ ■ラッピング定盤径：Φ910mm ■修正リング径：外径Φ420mm×内径Φ370mm ■強制ドライブ駆動：オプション ■オシレーション駆動：オプ...

メーカー・取り扱い企業： ラップジャパン株式会社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

6ガス系統要） • SiO2エッチング（*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, CHF3ガス系統要） 【仕様】 ◉ 対応基板：〜Φ6inch ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動シーケンス ◉ APC自動圧力制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 増設可能 ◉ Windows PCソフトウエア付属：自動エッチングレシピ作成・保存・保存、データロギング 【寸法・...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

卓上型ラッピングマシーン『LJ-15-D2型』

高度な平坦度・表面粗度仕上がりを実現する卓上型ラッピングマシーン！

由に回転可変が可能です。 【主な仕様】 ■ラッピングプレート径：Φ380mm ■修正リング径：外径Φ178mm×内径Φ138mm ■修正リングドライブ機構：2軸 ■制御方式：リレーシーケンス回路 ■ラッピングプレート回転制御：回転可変式インバーター　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ラップジャパン株式会社

光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。 【特長】 ■自由なパルスシーケンス形成 ■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能 ■独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能（独自設計ツールSimPulse） ■R&Dから迅速な量産への移行可能（R2R対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

半自動ガス切替装置

簡単な操作で、途切れることなくガスを供給

用可能 ■豊富なオプションをご用意 　・ガスボンベの本数追加(2×2から必要に応じて) 　・圧力センサ、トランスミッタ追加 　・エアー駆動バルブ、電磁弁による自動制御 　・計装シーケンス制御 　・切替、異常等の遠方警報出力 □その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 川口液化ケミカル株式会社 川口事業所

CVDコーティング装置

どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

も 制限なく使用できる、CVDコーティング装置 【特徴】 ○加熱炉一台にコーティングチャンバーを 　2〜4台を付加することが可能 ○コーティングは規定圧力で行われる ○プロセスシーケンスは予備プログラミング可能な 　自動プロセッサーによって監視され 　さらに制御及び調節装置を装備 ○ガス供給装置を、綿密でコンパクトに装備 ●より詳しい掲載内容につきましては、 ...

メーカー・取り扱い企業： 中日本炉工業株式会社

SIVAテストフレームワーク

半導体のテストフェーズを統一化して作業効率UP

開発から生産まで統一フレームでテストするため、高い品質管理を行えます。 　ペリテックではLabVIEWプログラム言語で機能ごとにモジュール化したプログラムを作成して、TestStandでテストシーケンスを構築、さらにSIVAによる管理により短期間での高機能かつ拡張性の高いテストシステムを開発します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ペリテック 神奈川エンジニアリングセンター、東京営業所、ベトナム事業所

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

安全性・操作性を重視した、『ウエハー焼成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート：真空・パージ（3 cycle）〜 ベントまでを自動シーケンス制御（標準） ・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整 ・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能） ・高真空対応（ターボ分子ポンプ） ◆オプション◆ ・フルオ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社