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PRFALCON 500G2はマイクロ、マクロビッカース、ヌープ、ブリネル…
FALCON 500G2は、様々な要求に応える幅広い試験力構成の選択肢を持ち、ハードウェアを完全に統合することで、お客様の業界特有の試験タスクに確実に適合させることが可能です。 最高レベルのメカニカルデザインから生まれたベースユニットのロードセル、クローズドループシステムは、マニュアルまたはデジタルマイクロメータ、あるいはより快適な試験環境を実現するモーター駆動のCNCステージと組み合わせて完成さ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イノバテスト・ジャパン 本社
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PR切らずにほぐす 高粘度にも対応 CNT分散に好適な実験機をご提案~切換…
最新電池・最新電子デバイス分野でCNTは実用化段階に入りました。 ビーズミル機や超音波ホモジナイザーでは繊維長を維持した精緻な分散は困難。 ユーティリティ、スケールアップの観点からCNT分散では 超高圧ホモジナイザー一択となりつつあります。 《下記のような課題はございませんか》 ・アプリケーションに応じた適したの分散状態にコントロールしたい ・できるだけ切らずにほぐしたい ・詰まりにくく、利便...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社常光 ナノマテリオ・エンジニアリング事業部
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新プラズマ源HCD(ホローカソード放電)電極搭載、各種メタルやCu薄膜…
ルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくCu薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 300mmウェハや積層基板、最大1m□までの基板のメタルエッチングに対応。 近年ニーズが高まっている半導体周辺部材(フォトマスク、高...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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大容量の粉体表面改質装置
混合・攪拌することが可能な「流動層」技術を応用し、 プラズマにより生成された活性種を効率よく粉体に曝すことで プラズマ発生部と処理部を分離します。 また、真空チャンバーを必要としないためスケールアップも容易。 従来の装置では採用できなかった用途へも適用できるようになりました。 【特長】 ■大容量処理 ■炭素粉体や先進的な技術への応用も可能 ※詳しくはPDFをダウンロード...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体
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