溶接ヒューム回収に！局所排気装置に好適な難燃性耐熱ホース！

PR難燃性・屈曲性に優れた高機能耐熱ホース（最高1,100℃）は、プラズマ…

弊社ドイツ製高機能耐熱ホースは、125℃～最高1,100℃に対応可能な約20種類の豊富なラインナップがございます。 中でも難燃性・屈曲性・耐久性に優れた耐熱ホース製品は、プラズマ切断機、ガス切断機、溶接ロボットのヒューム回収用で実績があります。 その他、フレキシブル性に富んだ高温排気ガス抽出用ホースもご用意をしています！ 【実現できること】 ◎ヒューム吸引用の塩ビ（PVC）ダクトホース...

メーカー・取り扱い企業： エフ・アイ・ティー・パシフィック株式会社

イオンビームスパッタ装置のグローバル分析レポート2023

イオンビームスパッタ装置に関するグローバル市場分析、市場規模、販売…

2023年4月18日に、QYResearchは「グローバルイオンビームスパッタ装置に関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。イオンビームスパッタ装置の市場生産能力、生産量、販売量...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

溶接トーチ用ノズルのスパッタ防止＆除去装置『CERABO-HD』

使ってびっくり効果抜群！ニューセラミックボールと耐熱効果促進材の相乗パ…

『CERABO-HD（セラボーハンド）』は、溶接トーチ用ノズルの スパッタ付着防止膜と除去が同時に可能です。 水溶性で油煙の発生もなく人・環境に安心です。 耐熱促進剤がノズルの洗浄・耐熱皮膜の形成・研削を補助し、 さらにセラミックボールの研削・研磨力を増強させます。 【特長】 ■半自動溶接トーチ専用 ■簡単な装置でスパッタ付着防止と除去を瞬時に行う ■耐熱促進剤がセラミ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オリック

超高真空1インチ（小型）スパッタカソードの開発と商品化

世界最小クラスのスパッタカソード単品試作から用途に合わせて製作

超高真空1インチ（小型）スパッタカソードは、世界最小クラスで単品試作から用途に合わせて製作します。製品開発の背景には研究装置の小型化、レアメタル材料の使用効率化、高品質化・高再現性・量産応用可能技術への継続性、分析・評価システムへの接続などがあります。ヘッド直接ガス導入・水冷式構造でφ1インチターゲット対応、マッチングボックス内蔵の専用RF電源付きでUHVにも対応お手持ちの真空チャンバーに容易に搭...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

スパッタリング用カソード『マグネトロンスパッタソース』

φ19コンプレッションポートより導入するカソードを始め、既存装置に合わ…

『マグネトロンスパッタソース』は、金属・酸化物・半導体等の成膜用の スパッタリング用カソードです。 標準タイプのφ19コンプレッションポートより導入するカソードを始め、 既存装置に合わせた特殊仕様に対応。 ガス導入ノズル、シャッター、パーティクル対策シールド(PGシールド)、 超高真空対応などお客様のニーズに合わせて設計いたします。 【特長】 ■金属・酸化物・半導体等の成...

メーカー・取り扱い企業： ケーズテック合同会社

耐熱効果促進材『CERABO-SB』

トーチ専用！ニューセラミックボールと耐熱効果促進材の相乗パワー！

『CERABO-SB』は、高電流・高作業率のスパッタ発生の作業に適した トーチ専用の耐熱効果促進剤です。 多孔質性と緻密質性のセラミックボールの研磨・研削効果を洗浄耐熱促進剤が 補助しスパッタの付着を防止します。 溶接作業後の高温になったトーチを1～3回（ロボットに教示）浸漬させると 付着したスパッタの離脱を効果的に発揮します。 【特長】 ■トーチ専用 ■16φ～24φ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オリック

溶接関連製品のご紹介

溶接作業の省力化と安全性に優れたケミカル製品。多様な製品ラインアップで…

株式会社タイムケミカルでは『溶接関連製品』を取り扱っております。 溶接前に塗布する母材用のスパッタ付着防止剤である「スパドール」を はじめ、電気コード、エアホースなしでどこにでも持ち運び可能な ポータブルスプレー「イージーショット2500」や、染色浸透探傷剤の 「ハイチェック」などを豊富にご用意。 多様な製品ラインアップで、お客様をサポートいたします。 【ラインアップ(一部...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイムケミカル つくば本社・工場/業務本部・東日本事業所

【関西ものづくり新撰2023選定！】緻密＆平滑膜形成装置

驚くほど緻密で平滑な反応膜を実現した『アーク放電型マグネトロンスパッタ…

当社で取り扱う、『アーク放電型マグネトロンスパッタ装置』をご紹介します。 マグネストロンスパッタ機構の前面に低電圧大電流のアーク放電機構を付加 したことで、基板に入射するイオン量が一般的な装置に比べて10倍多くなり、 緻密で硬い、平滑な反...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ポリイミド（PI）フィルムへのめっき：トップSAPINAプロセス

フレキシブルプリント回路基板（FPC）向け　ポリイミド（PI）フィルム…

電子機器の高性能化・小型化により、プリント基板にもさらなる高速化・高密度化が求められています。 特にポリイミドは耐熱性・誘電特性に優れているので、フレキシブルプリント回路（FPC）の素材として広く用いられています。しかし、従来の方法では配線の微細化に限界がありました。 そのため、奥野製薬工業は微細配線形成に最適なプロセスを開発しました。 ◆ポリイミド（PI）フィルムへのニッケルシ...

メーカー・取り扱い企業： 奥野製薬工業株式会社 大阪・放出、東京、名古屋など

プラズマモニタ

エッチング・スパッタ・CVD等プラズマモニタに好適！

オーシャンオプティクス社製の小型分光器は、リアルタイムでチャンバ内の プラズマ発光スペクトルを取得するために多くのお客様から選ばれています。 これらの発光スペクトルから求めたプラズマ特性を監視し、 半導体製造におけるプラズマベースのプロセス制御等に好適です。 『プラズマモニタ』は、スタンダードモデルのFLAMEをはじめ、高分解能モデルの HR4000またはバッファリング対応UV高...

メーカー・取り扱い企業： オーシャンフォトニクス株式会社

東北大学技術：高密度プラズマスパッタリング装置：T16-141

基板ダメージが少ない／イオン量とエネルギーを独立制御／磁性体ターゲット…

デバイスの微細化の進展または薄膜結晶の高品質化の要求が高まるにつれて、スパッタリングにおいて基板へのイオンダメージが大きな問題となっている。従来広く利用されているマグネトロンスパッタ法では、ターゲット材と基板の間に直接プラズマを形成するため、「1　イオンダメージの回避が困難」であり、高密度プラズマ生成時にはこの問題が顕著化してしまう。またプラズマ生成のための放電とイオン引き込みを同一の電源で同時に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東北テクノアーチ

フロニウス　デジタル溶接機『TPS/i ロボット溶接システム』

信頼性の高いシステムとしてあらゆるロボットと連結可能！

『TPS/i ロボット溶接システム』は、あらゆるロボットと連結して、 将来の拡張性があり、アップグレード可能な信頼性の高いシステムです。 「低スパッタ・コントロール・プログラム（LSC）」と「パルスマルチ・ コントロール・プログラム（PMC）」搭載で高品位な溶接を実現します。 また、ロボット連結によるシステム構成も「空冷プッシュ仕様」と「水冷 プッシュ・プル仕様」があります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 愛知産業株式会社

スパッタリング　薄膜加工　成膜加工（薄膜成膜受託加工）

スパッタリングは低温でもすぐれた密着が得られます。ローコスト・短納期に…

研究開発段階でのご試作をローコスト・短納期にて成膜致します。・大型のスパッタ装置を保有しており、比較的大判基板でも成膜致します。・スパッタリング薄膜表面処理のノウハウをベースに様々なご提案をさせて頂きます。・公的研究機関と提携しスパッタリング成膜の技術開発を行っております。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ビースパッタ

化合物半導体系超格子サンプルにおける深さ分解能測定

化合物半導体サンプルを試料に、深さ分解能を測定した結果を紹介。

SIMS(二次イオン質量分析法)は数 kV の 1次イオンビーム(O2+, Cs+)を試料 表面に照射し、スパッタされた二次イオンを質量分析して試料中の微量 不純物を分析する事ができる装置です。 Q-pole SIMS(アルバックファイ：ADEPT-1010)によっては、Al0.28Ga0.72As/GaAs を 50nm ずつ分子線エピタキシー(MBE)で成膜した化合物半導体サンプル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イオンテクノセンター