• 1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機 製品画像

    1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機

    PRシングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…

    『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて適した装置構成をご提案可能です。 【特長】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 「日本工作機見本市 JIMTOF2024」出展案内 製品画像

    「日本工作機見本市 JIMTOF2024」出展案内

    PR心なし研削盤、高周波スピンドルなどの製品を展示予定!

    世界四大工作機械見本市である日本工作機械見本市(JIMTOF)が開催され、弊社も出展します。 弊社は、新たに開発した心なし研削盤と高周波スピンドル、さらに進化を遂げた内面研削盤用動力計を展示します。 他にもブース内ではセンシングとAIを融合させた研削加工の紹介を行います。 新鋭の技術を取り揃え、皆様のご来場を心よりお待ちしておりますので、ぜひ弊社ブースへお立ち寄りください。 【開催概要】 ■...

    メーカー・取り扱い企業: ミクロン精密株式会社

  • 1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機 製品画像

    1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機

    シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…

    『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」 製品画像

    シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

    1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置!洗浄方法の…

    各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を1つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇ シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇ Si(シリコン)、LT(リチウムタンタレート)やSiC(炭化ケイ素)他、   各種ウェハ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」 製品画像

    省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」

    1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

    各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを1チャンバーで行う枚葉装置です。 1つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 高圧パルスジェット DP-Gun マスク・ガラス・ウェハー洗浄に 製品画像

    高圧パルスジェット DP-Gun マスク・ガラス・ウェハー洗浄に

    同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰…

     ※1 ノズルチップの形状・ポンプ容量 は 洗浄の目的     必要流量・DP-Gunの設置数量により別途ご相談となります ■その他   DP-Gun取り付けステー、洗浄槽・移動ステージ、   スピン・エアーナイフによる乾燥、   他洗浄方法(超音波・薬液等)と合わせての装置化 等   ご要望に応じてご提案させて頂きます。  ※ 写真はDP-Gunの複数台使用時の連結イメージと    弊社デ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置 製品画像

    LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

    ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

    ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 高圧断続スプレー「DP-Gun」 製品画像

    高圧断続スプレー「DP-Gun」

    各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に!1秒間に30回のノズル開閉…

     ※1 ノズルチップの形状・ポンプ容量 は 洗浄の目的     必要流量・DP-Gunの設置数量により別途ご相談となります ■その他   DP-Gun取り付けステー、洗浄槽・移動ステージ、   スピン・エアーナイフによる乾燥、   他洗浄方法(超音波・薬液等)と合わせての装置化 等   ご要望に応じてご提案させて頂きます。  ※ 写真はDP-Gunの複数台使用時の連結イメージと    弊社デ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置 製品画像

    小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置

    ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置!独自機構の表…

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」 製品画像

    ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

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