• ワイドベルトサンダー『SGRHシリーズ』<新スタンダードタイプ> 製品画像

    ワイドベルトサンダー『SGRHシリーズ』<新スタンダードタイプ>

    パスラインが一定でライン化に好適!材料のはね返りを防ぎ安全性を向上した…

    『SGRHシリーズ』は、エアークッションパッドと前下研削ロ一ル機構を 装備したワイドベルトサンダーです。 1ヘッドタイプから3ヘッドタイプまでご用意。加工厚の微調整は タッチパネルにて0.1mm単位に調整できます。 また、テーブル前面に安全バーを装備し、エアー圧力低下、サンディング ベルトの破損、片寄り時は自動ブレーキ装置が働きサンディングベルトの 走行を停止します。 【...

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    メーカー・取り扱い企業: アミテック株式会社

  • スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』 製品画像

    スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1(*DCスパッタのみ) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ワイドベルトサンダー『SERシリーズ』<定盤固定タイプ> 製品画像

    ワイドベルトサンダー『SERシリーズ』<定盤固定タイプ>

    定盤固定式のためライン化に好適!中研削から仕上塗装研磨まで幅広く使用可…

    『SERシリーズ』は、木地研削から各種塗装研磨まで加工面に合わせ 好適なサンディング速度で加工できるワイドベルトサンダーです。 エアークッションパッドと前下研削ロール機構を装備。材料の跳ね返りを 防ぎ安全性の向上を図った逆転防止ロール付きとなっております。 また、加工厚の設定はタッチパネルにて寸法を入力すればワンタッチにて 位置決めが可能です。 【特長】 ■サンディング速...

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    メーカー・取り扱い企業: アミテック株式会社

  • アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』 製品画像

    アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 塗布幅可変スリットコーター 製品画像

    塗布幅可変スリットコーター

    塗布幅をデジタルで可変できるスリットコーター

    タッチパネルでの設定変更のみで塗布幅の変更が可能。 ダイやシムの交換にかかる段取り替えの時間を大幅に削減できます。...塗布膜厚範囲  50~800μm 塗布膜厚精度  ±1.5%   450μm厚塗布実績 塗布幅    MAX 400mm 可変幅は100mm 対応材料粘度  1,000~15,000cps  希釈材料は除く 送液方式    メカニカルポンプ 樹脂供給方式  加圧タンク...

    メーカー・取り扱い企業: プレマテック株式会社

  • 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

    【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタカソード x 3:自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:基板回転・昇降、基板加熱(Max500℃)、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統(MFC制御)、RF/DC ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スピン洗浄装置 卓上型マニュアルスピンコーター MSC-300型 製品画像

    スピン洗浄装置 卓上型マニュアルスピンコーター MSC-300型

    φ2"~φ6"基板対応卓上型マニュアル式!ディスペンサー付

    MSC-300型は、φ2"~φ6"基板対応のディスペンサー付卓上型マニュアル式スピンコーターです。ディスペンスアームを2本備え自動で塗布できます。条件設定は操作パネル上のタッチパネルで行います。各処理モード中はタッチパネル上に各モードが表示されます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...【特徴】 ○ディスペンサー付 ○φ2"~φ6"基板対応 ○卓上型マニュアル式 ...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置 製品画像

    ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

    高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • ホローカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH-400T 製品画像

    ホローカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH-400T

    ドロップレットを減少させるための蒸発源高速回転機構付です。

    ホローカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH-400Tは、アクセサリーなどの装飾膜成膜、工具の硬化膜成膜に最適です。 導入ガス(N2、O2、C2H2)の量、及び種類を変えることにより、成膜色を変える事が可能。 【特徴】 ○工具の硬化膜成膜用に最適 ○タッチパネル操作による成膜レシピ制御が可能 ○少量生産機・実験機として最適 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

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