• 超高圧湿式微粒化装置『ナノヴェイタ NVL-ES』 製品画像

    超高圧湿式微粒化装置『ナノヴェイタ NVL-ES』

    PR圧力をあげても極力粒子にダメージを与えない構造!クロスコンタミを抑制で…

    『ナノヴェイタ NVL-ES』は、乳化・分散・解繊・破砕など様々なシーンに 対応できる、メディアレス湿式微粒化装置です。 数十μmの粒子をナノオーダーにし、特性の向上や新たな特性を付与する 目的で使用されています。 処理条件を数値制御できるためデータ管理が容易で再現性が高いのも魅力。 タッチパネルは操作性が良く、感覚的に操作することができます。 【特長】 ■乳化・分散・解...

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    メーカー・取り扱い企業: 吉田機械興業株式会社 三重ナノテク生産技術センター

  • AXELENT フロアバリア 製品画像

    AXELENT フロアバリア

    PR【安全対策】工場・倉庫内の安全性向上に大活躍!足元の低い位置で発生する…

    アクセレントのX-Protect(エックス・プロテクト)衝撃保護システムに、フロアバリアが登場! 単体での設置も、同シリーズの他の製品と組み合わせての設置も、どちらも可能です。 X-Protectシリーズの組立はとても簡単! 支柱の間にレールをスライドさせるだけで、最低限の工具での設置が可能です。 またレイアウト変更や拡張が必要な際にも、モジュラー設計により、既存の構成を簡単に変更する...

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    メーカー・取り扱い企業: アクセレントジャパン株式会社

  • 【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価 製品画像

    【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価

    高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能

    半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。 高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されることを利用して、この損傷由来のa-Siをc-Siと分離して定量評価した事例をご紹介します...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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