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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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薄膜作成コンポーネント
オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『薄膜作成コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■単品試作から用途に合わせて製作!スパッタカソード ・ヘッド直接ガス導入、水冷式構造 ・φ1インチターゲット対応 ・マッチングボックス内蔵の専用RF電源付き ・UHVにも対応 ・お手持ちの真空チャンバーに容易に搭載可能 ■ICF70よりマウント可能なEB...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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小型でスペース効率の優れた装置!基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…
当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 【特長】 ■シリンダーキャ...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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単品試作から用途に合わせて製作可能!「EBガン」や「Kセル」などをライ…
当社の取り扱う『薄膜作成コンポーネント』をご紹介します。 世界最小クラスのUHV対応「マグネトロンスパッタカソード」をはじめ、 ICF70よりマウント可能な「EBガン」やルツボ最小2cc~100cc対応の 「Kセル」などをラインアップ。 また、有機・金属材料対応の「マルチ抵抗加熱ソース」や「コニカル型 蒸着ソース」などもご用意しております。 【ラインアップ】 ■マグネトロ...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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EB源増設ポート付!4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備…
当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法:100×100 ■基板加熱温度:常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源:100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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