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PR樹脂加熱や加熱加工、複雑形状加熱、部分加熱など!事例ごとに適応製品もご…
当資料では、「シリコンラバーヒーター」などの導入事例を 用途別にご紹介しております。 機械油圧ユニット関連保温や粉体製造機械器具関連保温、 液体注入ディスペンサー保温用ヒーターなどを掲載。 従来の問題点や改善点のほか、各事例ごとに適応製品もご紹介しており、 導入検討の際などに、参考にしやすい一冊となっております。 【掲載事例(一部)】 ■機械油圧ユニット関連保温 ■粉体...
メーカー・取り扱い企業: オーエムヒーター株式会社
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PR薄手!柔軟!だから多種多様な形状で使用可能な面状発熱体ヒーターです!
ただ発熱するだけじゃない! 【1】薄くてやわらかいから小型・軽量化に貢献 【2】昇温レスポンスが早いから大幅性能アップ 【3】自由な形状で設計できるから用途が広がる シンワの面状発熱体は、金属箔に電気を流して発熱させる薄いシート状の発熱体です。非常に薄くてやわらかい為、曲面や狭いスペースへの加熱に適しています。さらに回路をエッチングで形成する為、設計者の意図した発熱分布を得ることが...
メーカー・取り扱い企業: シンワ測定株式会社 FE部
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性…
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃
真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 15…
HTEヒーターは最高使用温度は1500℃の超高温真空用加熱ヒーターユニットです。 蒸発温度の高い材料も使用することができますので、有機EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)・高温抵抗加熱蒸着(~ 1500℃)な...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️
真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃(グラファイ…
◎ 使用可能環境:真空中, 不活性ガス中 etc.. ◎ 発熱体:Graphite, C/Cコンポジットヒーター、SiCコーティング、PGコーティング、タングステン、タンタル、など。 ◎ 製作範囲:ヒーター部(Φ150 x 100mm程度まで)導入フランジ、温度制御ユニット ◎ 用途:各種真空装置プロセ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
イスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃
有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとし…
EL等の低温有機蒸着(~ 800℃)用セルと高温加熱(~ 1500℃)セルを交換することができます。 真空成膜用ソースとしてお使いの場合はシャッター・アクチュエータも用意。 800℃以上の高温ヒーターとしてお使いの場合は、内部シールド構造を備え、断熱・熱遮蔽を考慮した設計。 シャッターはフリップ式を採用 チャンバー内に複数のOLEDソースを設置しても他のコンポーネントに干渉することがありま...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで…
◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲:Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式(多段5枚カセット) ◾️ ヒーター制御:1ゾーン、又は2ゾーン(カスケード制御) ◾️ ヒーター材質: ・C/Cコンポジット:Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値) ◉ カスタマイズ自在なヒーター構造: - 円筒状ヒーター:るつぼ内サンプル焼成(固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用) - 面状ヒーター:Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉ 昇温時間最速約15分(1500...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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