実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

【書籍】電子機器の放熱・冷却技術と部材の開発(No2115)

【無料試読ＯＫ・専門図書】★ 高性能半導体の高速化、デバイスの高密度実…

■目次 第１章　ヒートシンクの設計と小型、高熱伝導化 第２章　ヒートパイプの設計と小型、熱輸送効率向上 第３章　各種TIM材の開発と応用 第４章　高放熱・高熱熱伝導な基板の開発 第５章　高効率な冷却技術の開発 第６章　電子機器設計に向けた熱シミュレーション技術...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会