フォト | イプロスものづくり

PRG１～G６ｈの様々なサイズにも対応。精密・高品質なガラス搬送ケースの製…

当社の『ケース事業』では、お客様のニーズに合わせて、ケースの製作・修理・洗浄・保管から輸送までトータルシステムをご提案します。精密・高品質なガラス搬送ケースの製造・クリーンルーム洗浄から物流支援まで幅広く手掛けています。また、長年培ってきたガラス精密加工技術をベースに、フラットパネルディスプレイ用（LCD・OLED）フォトマスク用・メタルマスクのケースなどの先端分野で求められる超精...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ディー・アール・エス（DRS)

半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター　PICS3D

PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

＜主な特徴＞ ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を含むレーザダイオードが計算可能＜多様な物理モデルや機能＞ ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数（１次、２次のグレーティング） ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■２次グレーテ...

メーカー・取り扱い企業：クロスライトソフトウェアインク日本支社

シリコンエッチング

フォトファブリケーションを中心的技術として、マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社『シリコンエッチング』のご案内です。シリコン基板そのものを腐食させ、立体構造を形成する技術 ■□■特徴■□■ ■シリコンの結晶方向を利用して、溝壁面が平らな　溝加工ができる（異方性エッチング）。　V型の溝と、角型の溝...

メーカー・取り扱い企業：フォトプレシジョン株式会社

金属・金属酸化物・誘電体膜対応　薄膜コーティング

フォトファブリケーションを中心的技術として、マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社『薄膜コーティング』のご案内です。ほとんどの金属・金属酸化物をコーティングすることが可能！ ■□■特徴■□■ ■抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、スパッタリング装置を　社内に保有 ■抵抗過熱真空蒸着　真空中...

メーカー・取り扱い企業：フォトプレシジョン株式会社

ガラスエッチング加工

フォトファブリケーションを中心的技術として、マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社『ガラスエッチング加工』のご案内です。ガラスの表面をフッ化水素などの薬品で腐食させ溝や段彫り加工などを施す技術 ■□■特徴■□■ ■基板材として、石英や、BK7などのホウ珪酸ガラスが使用される ■フォトリソなどでパター...

メーカー・取り扱い企業：フォトプレシジョン株式会社

サンドブラスト加工

フォトファブリケーションを中心的技術として、マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社『サンドブラスト加工』のご案内です。ガラス・シリコン・石英など比較的硬い基板上に、空気圧で砂をたたきつけることにより、基板表面を削って溝や穴などを作成する技法 ■□■特徴■□■ ■基板表面にサンドブラスト用ドライフィ...

メーカー・取り扱い企業：フォトプレシジョン株式会社

電解メッキ

フォトファブリケーションを中心的技術として、マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社『電解メッキ』のご案内です。イオン化した金属を含む水溶液に基板を入れ、液中に電気を流して基板の表面に金属を析出させる加工 ■□■特徴■□■ ■6インチウエハー対応のメッキシステムを導入 ■蒸着による成膜は通常は1μm以...

メーカー・取り扱い企業：フォトプレシジョン株式会社

高アスペクト比レジスト

フォトファブリケーションを中心的技術として、マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社『高アスペクト比レジスト』のご案内です。平面のレジストパターンに高さを与えることが実現！ ■□■特徴■□■ ■レジストパターンはエッチング工程で、メタル薄膜などを　エッチング液から守る膜として使用されている ■高精度...

メーカー・取り扱い企業：フォトプレシジョン株式会社