• フォトマスク洗浄装置 | 縦型コンパクトタイプ TWE-200 製品画像

    フォトマスク洗浄装置 | 縦型コンパクトタイプ TWE-200

    PRスクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れ…

    スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で実行 テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-1000 をご提供しています...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノビジョン 本社

  • FPD・半導体用 ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能 製品画像

    FPD・半導体用 ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能

    PRG1~G6hの様々なサイズにも対応。精密・高品質なガラス搬送ケースの製…

    当社の『ケース事業』では、お客様のニーズに合わせて、ケースの製作・ 修理・洗浄・保管から輸送までトータルシステムをご提案します。 精密・高品質なガラス搬送ケースの製造・クリーンルーム洗浄から物流 支援まで幅広く手掛けています。 また、長年培ってきたガラス精密加工技術をベースに、フラットパネル ディスプレイ用(LCD・OLED)フォトマスク用・メタルマスクのケースなどの 先端分野で求められる超精...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ディー・アール・エス(DRS)

  • みつかるガレージSUPS 製品画像

    みつかるガレージSUPS

    エレクトロニクス関連商品のオンラインストアです。量産工場、研究開発に関…

    【取扱商品】 ・中古部品(ロボット、電源、モーター、ドライバー/コントローラー、ポンプ等) ・装置部品(CMP、CVD、PVD/スパッタ、ETCH/エッチング、フォトリソグラフィー、IMP/イオン注入 ・電子材料(ターゲット、タブレット、ロッド) ・ウェハ(シリコンウェハ、膜付きウェハ、チャッククリーニングウェハ) ・ナノインプリント用モールド(お試しモ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル

  • チャッククリーニングウェハ(CCW) 製品画像

    チャッククリーニングウェハ(CCW)

    生産用シリコンウェハと同様、自動搬送で流すだけで効果を発揮します。

    リーニングウェハ(CCW)』についてご紹介します。 当技術は、チャック上のゴミ/パーティクルを除去。簡単な使用方法で ダミーウェハのロスの低減、装置ダウンタイムの削減を実現します。 フォトリソグラフィーのほか、エッチングやスパッタリングの プロセスにおいて効果が期待できます。 【特長】 ■チャックの表面形状に合わせた3D加工も可能 ■専用のメンテナンスシートでクリーニン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル

  • 半導体製造装置保守メンテナンストータルソリューション 製品画像

    半導体製造装置保守メンテナンストータルソリューション

    主要前工程装置用の高額パーツ・電源・真空ポンプ等々を修理 / 再生 /…

    〔特徴〕 ・CMP、イオン注入、CVD、スパッタリング、フォトリソグラフィー、エッチング等主要前工程装置に対応 ・ディスコン品への対応、修理 / 改善品提案 ・老朽化装置の延命対策の提案 ・現地取り外し、取り付けに対応...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル

  • ナノパターン露光装置『PhableR 100』 製品画像

    ナノパターン露光装置『PhableR 100』

    回折限界を超えた解像度を実現!低コストで周期構造を作製できる露光システ…

    『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの 露光システムです。 フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。 独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。 サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン 作製...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル

  • ナノインプリント装置「TEXシリーズ」*デモ相談可能 製品画像

    ナノインプリント装置「TEXシリーズ」*デモ相談可能

    従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやす…

    【特徴】 ○真空・加圧の無いシンプルな装置構成 ○耐久性に優れた独自素材のモールドを使用 ○フォトニックレベル(φ250nm)まで可能 ○120枚/時間の高速処理を実現 ○ドライエッチング後サファイア基板断面選択比:0.8を実現 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードし...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル

  • チャック上のゴミ/パーティクルを除去!チャッククリーニングウェハ 製品画像

    チャック上のゴミ/パーティクルを除去!チャッククリーニングウェハ

    ダミーウェハのロスの低減、装置ダウンタイムを削減!導入効果や他社比較を…

    ウェハチャック上のゴミ/パーティクルを除去するためのお掃除用ウェハについてご紹介している技術ハンドブックです。 フォトリソ工程やエッチング工程、スパッタ工程での優れた効果をはじめ、種類・他社品比較の優位点・品質、導入効果などを掲載!生産用シリコンウェハと同様、自動搬送で流すだけで効果を発揮します。 【掲載内...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社協同インターナショナル

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