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26件 - メーカー・取り扱い企業
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8件 - カタログ
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半導体製造には欠かせないフォトレジストに関して、基礎から知りたい方は是…
弊社では、電着レジストを製造・販売しておりますが、お客様の中にはそもそもフォトレジスト自体をご存知ではない方も多くおられました。 そこで今回、基礎知識ページのニーズがあると考え、フォトレジストの基礎知識ページを作成させて頂きました。 皆様の中には、下記のようなことをお考...
メーカー・取り扱い企業： ハニー化成株式会社
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高度な分子量制御を行い、金属含有量を100ppb以下のレベルまで低減し…
フェノール樹脂の合成技術を応用しフォトレジスト用樹脂を製造しております。 当社のフォトレジスト用樹脂は非常に高度な分子量制御を行い、お客様の要求に応じたさまざまな樹脂を的確に再現性良く製造することが可能です。 さらに100ppbを大幅...
メーカー・取り扱い企業： 旭有機材株式会社 先端材料事業本部 電子材料部
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半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないフォトレジスト材料に…
本書では、フォトレジスト技術に関する幅広い分野をカバーし、実用書としても有意義な内容を構成しています。 具体的には、フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理装置までを幅広く網羅し、パターン欠陥などの歩留まり改...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社シーエムシー・リサーチ
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高感度・高信頼性を特徴とする重合開始剤や光酸発生剤、高精細な画像を可能…
エポキシ樹脂や界面活性剤といった基盤技術をもとに開発されました。カチオン開始剤、ラジカル開始剤、光酸発生剤、周辺材料、そして新たに光塩基発生剤(開発品)もラインナップに加えております。光硬化・フォトレジスト材料のトータルソリューションの提供を目指します。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA
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半導体や液晶などの電子材料製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤…
半導体製造プロセス用洗浄剤、フォトレジスト、反射防止膜などへのご使用ニーズにおいて、脱メタル、金属除去、汚染リスク低減のご要望にお応えする薬液です。 ・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り ・品目多数、当社製品のほ...
メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社
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【モールド向けレジスト原版】 ～大型・微細加工にもカスタム対応～
［技術概要資料公開］フォトレジストで金型（モールド）形成ができる！フォ…
当社 竹田東京プロセスサービスでは、フォトマスク製造で培った技術を応用し、 フォトレジストで立体的な構造を形成した【レジスト原版】を提供しております。 主に、金型（モールド）製造用の原版としての実績があります。 ◎任意の意匠形成 ◎大型製品への対応や微細加工 ⇒オーダーメイドでの...
メーカー・取り扱い企業： 竹田東京プロセスサービス株式会社 湘南藤沢センター、北陸センター、テクノセンター
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2024年フォトレジスト市場は上昇：高度なロジックとメモリの増加に伴い…
米国の半導体材料専門の調査会社テクセット社の調査レポート「リソグラフィー材料市場レポート CMR 2023-2024」は、フォトレジスト、エクステンション、補助材料を含むリソグラフィー材料市場のサプライチェーンや技術動向を調査・分析、予測しています。 【掲載内容（抜粋）】 ■リソグラフィー材料市場をフォーカスし、フォト...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社データリソース
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オキシムエステルシリーズや半導体フォトレジスト材料など豊富なラインアッ…
【その他の取扱製品】 ■ビスマレイミドシリーズ ■フルオレンモノマー及びカルド樹脂 ■オキシムエステルシリーズ ■半導体フォトレジスト材料 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業： TRONLY株式会社 本社
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半導体、液晶の製造プロセス薬剤『グリコールエーテル・アミン』
【サンプル進呈】半導体、液晶などの電子材料製造プロセス薬剤のメタルフリ…
■グリコールエーテル 低金属管理された高品質グリコールエーテルは、半導体や液晶などの製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤、洗浄剤、エッチング剤などの溶剤として広く利用されています。当社は各金属を数ppbレベルに管理した高品質なグリコールエーテルを豊富に取り揃えており、構造や沸点を広範囲で選択可能です。ま...
メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社
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電子材料用 高純度溶剤（PGME、PGEE、Diglyme）
【サンプル進呈】金属含有量pptレベルの電子材料用溶剤の製造実績多数有…
8900トリプル四重極 ICP-MSを保有 シングルpptレベルの分析が可能 ・生産設備：高純度品の生産が可能な設備を保有 ・使用例 ：半導体製造プロセス用洗浄剤、半導体用フォトレジスト、半導体用反射防止膜 ※PDF資料をダウンロードのうえ、お気軽にご相談ください。 ◆金属管理した界面活性剤についても提供可能です。 電子材料用界面活性剤『FG-68G04』のペ...
メーカー・取り扱い企業： 日本乳化剤株式会社
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微細加工用ポジ型フォトレジスト電着処理剤『ハニレジストAP』
電子部品などの微細加工に適したフォトレジストタイプの電着処理剤！
『ハニレジストAP』は、ハニー化成の長年に亘り培われてきた、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術（電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術）を基本とし、開発された微細加工用ポジ型レジスト電着処理剤です。 プリント基板やCOF・TCPへの Reel to Reelによる高速処理（通電時間10秒で 膜形成が可能）・微細加工が可能です。 スルーホール内の処理能力に...
メーカー・取り扱い企業： ハニー化成株式会社
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『低反射めっき加工』エレクトロフォーミング(電鋳)技術のご紹介
光反射を防止するめっきによる表面処理、 ミクロンレベルの超微細加工が…
『エレクトロフォーミング』とは、電解めっきによりNiめっき層を析出させて、金属製品を高精度成形する技術です。 フォトレジストに被さるように製品を析出させる「オーバーハングタイプ」、 厚み方向が直線的な形状の「ストレートタイプ」、複数の層から構成される 「積層タイプ」の3種類の断面形状から選択可能。 エッチ...
メーカー・取り扱い企業： 太洋テクノレックス株式会社 本社 和歌山
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ミクロンレベルの超微細加工が可能！電子部品、半導体分野などへ広く応用さ…
『エレクトロフォーミング』とは、電解めっきによりNiめっき層を析出させて、金属製品を高精度成形する技術です。 フォトレジストに被さるように製品を析出させる「オーバーハングタイプ」、 厚み方向が直線的な形状の「ストレートタイプ」、複数の層から構成される 「積層タイプ」の3種類の断面形状から選択可能。 エッチ...
メーカー・取り扱い企業： 太洋テクノレックス株式会社 本社 和歌山
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多様なプロセス技術を用いて製作されるエレクトロニクス向け薄膜製品
いた電子回路を ガラス、セラミックス、シリコン基板などの上に形成 [フォトエッチング] ○最初に基板上に必要とされる金属などをスパッタリング、 蒸着などの方法で所定の厚さに成膜し、フォトレジストをコートする ○フォトマスクと露光装置を用いてレジストの露光現像工程を行い エッチングにより目的のパターン形状を形成する [リフトオフ] ○フォトエッチングの技術を用いて最終形状と逆...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エクア
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湾曲ディスプレイや有機EL照明などに！加工精度はターゲット厚さに対して…
グ技術を活かし、最大550mm×650mm、 最小100mm×100mmの加工が可能。加工精度はターゲット厚さに対して ±10％以内を実現します。 また、スリミングした薄型ガラスに、フォトレジストやレーザー改質を利用し パターン加工・貫通加工・切断加工をするなど、他の当社ガラス加工技術と 組み合わせて、加工することもできます。 【特長】 ■ケミカル液でガラスを溶解し、薄く・...
メーカー・取り扱い企業： 武蔵野ファインガラス株式会社
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