• 法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』 製品画像

    法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』

    PR『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…

    「地球」を考える「化学」の時代。AGCが提案する新製品!フッ素系溶剤『AMOLEA(アモレア)AS-300』は、各種法規制や環境規制に非該当、安全で使いやすい不燃のフッ素系洗浄剤です。 【特長】 ■環境対応…地球温暖化係数(GWP)1未満で、地球環境に配慮した洗浄剤です。 ■洗浄力…KB値48の優れた洗浄力で、精密・金属部品の脱脂洗浄に使用可能。可燃性溶剤や臭素系、塩素系溶剤の代替として...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • プラズマ評価ツール『プラズマインジケータ PLAZMARK』 製品画像

    プラズマ評価ツール『プラズマインジケータ PLAZMARK』

    PRプラズマ処理効果の「見える化」を実現!プラズマインジケータ(TM) P…

    『プラズマインジケータ(TM) PLAZMARK(R)』は、プラズマで変色する色材を用いたプラズマ処理効果の確認用インジケータです。 プラズマ密度に応じて段階的に変色しますので、プラズマの状態を「色で見える化」できます。 変色は不可逆反応のため、判定記録として残せ、工程管理にも利用できます。 また、変色は簡単に数値化でき、他の測定結果との相関を見ることもできます(ただし数値化には別途、色差計...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部

  • フラッシュランプアニーリング装置 FLA 製品画像

    フラッシュランプアニーリング装置 FLA

    半導体など各種材料に!数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

    して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをすることが可能です。非常に短いパルス(マイクロ/ミリ秒レベル)のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の膜のアニ-リング処理等に使用できる研究開発用の小型装置です。コンパクトで使い勝手がよく、各種アプリケーションの研究開発に最適です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

  • ケミカルエッチング/テクスチャリング装置 製品画像

    ケミカルエッチング/テクスチャリング装置

    全国で1,000台以上の納入実績!太陽電池に最適なケミカルエッチング/…

    WAFAB INTERNATIONALのケミカルエッチング/テクスチャリング装置、フレキシブルなウェットプロセス装置を提案いたします。 半導体向け手動、半自動、完全自動ウェットエッチング装置を含めてエンドユーザー、大手装置メーカー等に1,000台以上の納入しており、薄膜太陽電池メーカーへの装置納入実績もございます。 基板サイズ、スループット、使用ケミカルに応じて、手動バッチR&D装置から完全...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

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