製缶加工【製缶実績紹介カタログ進呈中】

PR高品質製缶加工！ 短納期や急な仕様変更などにも柔軟に対応！ お気軽にご…

創業当初より製缶加工に力を入れて営業しております。 鉄、ステンレスが多いですが、 アルミやＳＵＳ310ｓ、ニッケル合金なども多く取り扱っております。 塗装（焼付、他）、溶融亜鉛鍍金、酸洗、研磨、ヘアライン等の 表面処理加工も一緒にご相談ください。 大阪、兵庫で製缶のことでお困りでしたら是非弊社にご連絡ください。...詳細はまずは実績カタログをダウンロード頂くか、 直接ご連絡ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社正和工業

ハイパースペクトルカメラ Hyspex Classic

PR可視から近赤外（～2500nm)に対応。高感度・低ノイズでリモートセン…

HySpexシリーズのハイパースペクトルカメラはフィールド・ラボ・航空システムのアプリケーションにご使用いただくことが可能です。 ■高いS/N比 ■高い空間解像度、フレームレート ■可視、近赤外の波長範囲に対応した製品ラインナップ （400～1000nm/930～2500nm/960～2500nm) ■撮影条件に応じた豊富なアクセサリー 　航空機用、ラボ用、フィールド用システムでの...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

フォトレジストの研究開発用露光ツール　

フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

BES-6000（電子線対応解析露光装置） ■EUVES-7000（EUV光対応解析露光装置） ■□■特徴■□■ ■ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えて オープン・フレーム露光が可能 ■露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて 現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速 ■その他機能や詳細については、カタログダウンロード...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることによ...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

レジスト解析用EUV露光装置 EUVES-7000

EQ-10 EUV光源を搭載、極端紫外光対応解析露光装置

レジスト解析用EUV露光装置EUVES-7000は、米国Energetiq Technology社製EQ-10 EUV光源を搭載し、波長13.5nmの極端紫外光露光に対応したオープンフレーム露光が行えます。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社