小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

粉粒体供給機 サークルフィーダ「標準型」のご提案

PR汎用性が高く機能性に優れた粉粒体供給機サークルフィーダを「標準型」とし…

サークルフィーダをより簡便に導入いただくために仕様・規格・コスト面で見直し「標準型」をシリーズ化してラインアップしました。 販売体制を整え、ユーザー様には更にお求めやすい環境でご提案いたします。 ◉広範囲な供給課題を解決します ・サークルフィーダの持つ機能性をそのままにブリッジや偏析等の貯槽・供給に関わる課題をサークルフィーダ「標準型」で解決します。 ◉型式と仕様の見直しでコスト低...

メーカー・取り扱い企業： サークルSTD株式会社

高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】

高真空仕様の加熱マイクロプローバ！加熱温度は最大500℃で、10mm形…

『HMP-100』は、排気系により＜10^-4Paでの使用が可能な高真空仕様の 加熱マイクロプローバです。加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します。TRIAXコネクタを採用することにより 1pA以下の電気測定が可能です。 【特長】 ■高真空仕様 　排気系により＜10^-4Paでの使用可能 ■加熱温度 　最大500℃対応 　10mm形状のサンプル加熱対...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】

非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキ…

非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各種インターロック付きで、オプションとして 外径50及び60用熱処理チャンバとの交換取付ができます。 【仕様（抜粋）】 ＜熱処理チャンバ/加熱機構＞ ■外径40×長さ236mm 水冷式二重S...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

高温雰囲気熱処理炉『HFQ-1100』【1100℃まで昇温可能】

1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉！真空及びガス置換雰囲気下で…

『HFQ-1100』は、高温化での熱処理ができ、常用1100℃（最大1150℃） まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉です。真空及びガス置換雰囲気下での 熱処理に対応。高温焼成及び溶融、ガス分析に適してます。Oリング部は 強制空冷の為、冷却水循環装置が不要です。 【特長】 ■常用1100℃（最大1150℃）まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応 ■Oリング部は強制空...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所