• フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』 製品画像

    フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

    PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

    『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

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    工具管理+ファイル管理システム

    PRExcelによる管理に限界を感じませんか?工具情報やNCプログラム等の…

    WinToolは機械加工業務プロセスのデジタル化を支援する工具管理・ファイル管理システム。機械加工業務の効率化・高度化に役立ちます。 ●工具情報管理基盤を構築 社内で分散しがちな切削工具・ツーリング・冶具・測定機器等の情報を集中管理。担当者・部門をまたがる情報共有を促進します。 ●CAM/NCシミュレーション連携 NC工作機械上や保管棚にある工具、社内に在庫がある工具を優先的に選択...

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    メーカー・取り扱い企業: WinTool Japan (ウィンツールジャパン)

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 医薬・製薬・ライフサイエンス向け  cGMP・FDA対応洗浄機 製品画像

    医薬・製薬・ライフサイエンス向け cGMP・FDA対応洗浄機

    細かな御要望に対応可能なGMP・FDA・EHEG対応 洗浄機(医薬品製…

    Amsonic Hamo社は、品質と完全な洗浄プロセスに高い評価を 頂いております。 お客様の製造ラインへ容易に省スペースで組み込むことができ、手洗浄から 自動洗浄により、オペレーションが簡易になることから人件費の削減や、 洗浄水・洗剤等...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ラモンドナノミキサー 静止型流体混合器 ※レンタル有 製品画像

    ラモンドナノミキサー 静止型流体混合器 ※レンタル有

    超微細化かつ均一化混合を短時間で実現! ナノバブル生成も可能。驚異的な…

    れらの複数の流体にせん断力を作用させることにより、超微細化かつ均一化混合を短時間で実現する装置です。 ◆脅威的な分散数 複数の流体は複雑な構造のユニット内部を通過する過程において、分散・集合のプロセスを繰り返す事になり、その分散数は天文学的な数値となります。 ◆高粘度・異相分散系に対応 既存の混合器や均質機とは異なり、一様なせん断場が得られるラモンドナノミキサーは均一混合が難しいとされる高...

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    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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