『紫外線洗浄・改質ガイド』※仕組、評価方法、アプリケーション例も

PR電子部品製造等における洗浄工程の改善ヒントに！初心者にもわかりやすく解…

「紫外線による洗浄・改質技術」は、電子部品、半導体、光学製品などの 製造プロセスで幅広く活用され、ガラス、樹脂、金属などの各種素材に 密着度や親水性の向上、濡れ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。 【紫外線洗浄改質の特徴】 ・大気中での処理が可能なドライプロセス ・製品表面へのダメージが極めて少ない（材料・条件による） ・様々な形状や大きさの製品に対応可能 『紫外線洗浄...

メーカー・取り扱い企業： 千代田交易株式会社

インライン成分分析セミナー無料ご招待【6/19・20開催】

PRなぜ、インライン分析がいま重要なのか？人手不足や労働時間規制に対応する…

無料オンラインセミナーのご招待です。 フォスのインライン成分分析装置について深掘りし、 製造プロセスの最適化と生産性の向上にどのように寄与するかをご紹介。 技術トレンドや、各業界でお使い頂けるアプリケーションを中心とした活用事例や応用例も紹介し、 人手不足や労働時間規制に対応するための製造プロセス改善のヒントを得られます。 乳業や食肉、飼料、穀物分野などの担当者の方に特におススメのセ...

メーカー・取り扱い企業： フォス･ジャパン株式会社

ヘリウムガス

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ヘリウム

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ヘリウム　回収

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ガス回収装置

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ヘリウムガス　回収装置

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ヘリウム　回収装置

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社