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    インライン成分分析セミナー無料ご招待【6/19・20開催】

    PRなぜ、インライン分析がいま重要なのか?人手不足や労働時間規制に対応する…

    無料オンラインセミナーのご招待です。 フォスのインライン成分分析装置について深掘りし、 製造プロセスの最適化と生産性の向上にどのように寄与するかをご紹介。 技術トレンドや、各業界でお使い頂けるアプリケーションを中心とした活用事例や応用例も紹介し、 人手不足や労働時間規制に対応するための製造プロセス改善のヒントを得られます。 乳業や食肉、飼料、穀物分野などの担当者の方に特におススメのセ...

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    メーカー・取り扱い企業: フォス・ジャパン株式会社

  • 【資料進呈】防爆対応・プロセス保温!レイケム工業用自己制御ヒータ 製品画像

    【資料進呈】防爆対応・プロセス保温!レイケム工業用自己制御ヒータ

    PR発熱量を自動的に増減、防爆対応も可能な自己制御ヒータ!プロセス保温で様…

    『自己制御ヒータ』はケーブルの長さに関わらず、周辺温度に応じて 発熱量を自動的に増減させるので、サーモスタットを使用しなくても 異常加熱せずに、 電気熱保温を行える安全性の高いヒータです。 発熱体が連続的な並列回路構造のため、必要に応じた長さに 切断・重ね巻きが可能です。 また、防爆対応可能な為、爆発性のガスなどが存在する危険な環境でも安心して ご使用頂けます。 【特長】 ■容易な施工 ■高い...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノカシワ

  • 側面電極用イオンプレーティング装置(面実装小型部品対応) 製品画像

    側面電極用イオンプレーティング装置(面実装小型部品対応)

    小型電子部品(面実装タイプ)の側面電極形成をドライ化。PVD(イオンプ…

    面実装タイプの受動電子部品(抵抗器・コンデンサ)などの側面電極をドライプロセスで形成。 廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Sn、Ni等の金属膜をハイスループットで形成。(酸化膜形成にも対応) 実績豊富なハードと独自の成膜プロセス...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • イットリアコーティング装置(AF-IP装置) 製品画像

    イットリアコーティング装置(AF-IP装置)

    耐プラズマ性に優れたイットリア(Y2O3)膜をPVD法で形成。 新開…

    型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜(10μm)を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくSiCやTiC、CrNなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途を開拓...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置) 製品画像

    SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置)

    サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

    FPCに代表されるフレキシブル電子デバイスの量産に実績対応。社内デモ機によるプロセスサポートにより各種の個別要求に確実に対応。 一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績 独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。 プラズマ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 導電性カーボン薄膜形成装置(アーク放電スパッタリング装置) 製品画像

    導電性カーボン薄膜形成装置(アーク放電スパッタリング装置)

    導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温(400℃以下)で不活性…

    独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法(ADMS法)によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応 導電性カーボン薄膜は硬度...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • SiCコーティング装置(AF-IP装置) 製品画像

    SiCコーティング装置(AF-IP装置)

    緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたSiC(シリコンカーバイド)膜をPVD…

    。 400℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたSiC膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くCVDに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニングコストの全てに優れた新成膜装置 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • アークフィラメント式イオンプレーティング装置  製品画像

    アークフィラメント式イオンプレーティング装置 

    緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 C…

    緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やSiC膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜(酸化膜・炭化膜)を...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置) 製品画像

    ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置)

    高密度プラズマスパッタで結晶性AlN膜を形成、立体形状への全面コーティ…

    立体毛状基板(機械部品・治工具・金型)対応の従来型硬質膜用ADMS装置にAlN膜用カソードとプロセスソフト装備可能 ウェハやセラミックなどの平面基板でなく立体形状品への成膜を高高率で実現。 高い信頼性を持つ全自動量産システムをラインナップ。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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