リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

Inmation ‐ OTデータ統合基盤ソリューション

AspenTech Inmationは多様なデータの取り込み、処理、拡…

、さまざまな場所にある業務コンポーネントとITシステムを接続できます。 Inmationを使用すると、様々なものを一目で確認できます。統合されたパフォーマンスダッシュボード上で生産データとプロセスデータをリアルタイムに確認できます。また、デスクトップまたはモバイルを介して、選択したデバイスでKPI（主要業績評価指標）を視覚化できます。 Inmationの主要クライアントアプリケーシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アスペンテックジャパン/AspenTech 米国アスペンテクノロジー社日本法人