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  • 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220） 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

    PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

    書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

    • IPROS3391385136135994447_220x220.png

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

  • REACH規制適合『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』 製品画像

    REACH規制適合『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』

    PR耐摩耗性・耐食性・耐焼付性などを向上。実績資料を進呈

    『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』は、熱化学的に軟窒化＋酸化を 施す技術で、塩浴中の窒素と少量の炭素で鉄素材表面を強化します。 REACH規制に適合するなど環境負荷が低く、クロムめっきの代替などにも活用可能。 ガススプリングや油圧シリンダー、ブレーキピストンなど様々な製品の 耐摩耗性・耐焼付性・耐食性・疲労強度の向上に貢献します。 クロムめっきからの代替実績を紹介した解説...

    メーカー・取り扱い企業： HEF DURFERRIT JAPAN株式会社

  • 乾式除害装置(MAKシリーズ) 製品画像

    乾式除害装置(MAKシリーズ)

    大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。…

    【幅広い対応範囲】 　各種処理剤がラインナップされており、各種プロセスの排気ガスに 　最も適した処理剤の選定ができます。 　また、弊社横浜研究所の現地分析により、 　フィールドでの排気分析結果に基づいた処理剤設計も可能です。 【低圧損】 　圧力損失の少...

    • mak内部画像.jpg
    • MAK Series 各種.png

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

  • 熱触媒式除害装置(TCSシリーズ) 製品画像

    熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

    排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

    ● 反応副生成ガスにも対応 　カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される　NH3（アンモニア）の他 　副生成される可能性が　ある毒性の強いHCN（シアン化水素）にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 　集合表示灯及びタッチパネル（オプション）、シ...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

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