フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【顧客事例】デジタルツールを導入し試作板金加工の業務プロセス革新

PR業務フローの早期段階、金型を製作する前のCAE解析で問題点を事前に見直…

試作板金加工と金型設計製作を主な生業としている、岡山県赤磐市の株式会社ラピート様 は以前の業務プロセスの問題を解消するため、AutoFormのデジタルツールを活用して、 業務プロセスを見直しました。会社を挙げてDX（デジタル・トランスフォーメーション） に取り組んだことにより、大きな成果を挙げることができました。...※詳しくはJapanFormingまたはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： オートフォームジャパン株式会社

ヘリウムガス

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ヘリウム

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ヘリウム　回収

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ガス回収装置

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ヘリウムガス　回収装置

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社

ヘリウム　回収装置

プロセスで使用したヘリュームガスを回収し、高圧容器に再充填する装置です…

要求仕様に応じ多様な機器構成を行います。 プロセスから排出される微圧のヘリュームガスを、真空ポンプにて 0.03MPa程度に初段回収し、二段目で0.5-0.6MPaに昇圧、さらにガスブースターで数MPa～数十MPaまで昇圧充填します。 顧客の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社