• 薬液供給装置(連続式) P112 製品画像

    薬液供給装置(連続式) P112

    PRプロセス装置に連続で薬液を供給

    本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト

  • ドライポンプ(ドライ真空ポンプ) SST/SSXシリーズ 製品画像

    ドライポンプ(ドライ真空ポンプ) SST/SSXシリーズ

    PR独自設計のスクリューロータによりハードプロセスをこなす、万能ドライポン…

    ◆独自設計のスクリューロータにより、従来ドライポンプでは不向きとされていた凝固性ガス・粉体・生成物・液体などの吸引を含むハードプロセスにおいても安定した運転を実現します。 ●ZEROEDGEスクリュー 排出効率に優れ、堅牢性を重視した構造設計により、ハードプロセスにおいても安定した運転を可能にします。 ●メンテナンス性の追求【省コスト】 設置場所にて、容易に洗浄作業や分解作業ができ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • インライン・ガスフィルター CEPURE「より高いガス置換特性」 製品画像

    インライン・ガスフィルター CEPURE「より高いガス置換特性」

    圧力損失を低減するデザインと共に、ろ過特性、ガス置換特性等ガスフィルタ…

    的なフィルターメディアです。 【特徴】  ・優れたガス置換特性  ・高耐食性 【仕様】  材料:アルミナ多孔体(エレメント部)/SUS/ニッケル/PTFE 【用途】  各種半導体プロセス用インラインガスフィルター ※詳しくはお問い合わせ下さい。...

    • 2_CEPRE_STM&SPF_30%.jpg
    • 3_CEPRE_TM_30%.jpg
    • 4_CEPRE_STM_30%.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 修正デザイン2_355337.png
  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg

PR