• 水添など気液混合の動力低下を防ぐ!気液プロセス用撹拌機/解説あり 製品画像

    水添など気液混合の動力低下を防ぐ!気液プロセス用撹拌機/解説あり

    PR気液混合の効率を大幅UP!水添などの課題解決のカギは撹拌設計にあるかも…

    産業用撹拌機のマーケットリーダーであるEKATOが、気液混合時に起こる「動力低下」を最小限に抑え混合効率の最大化を実現する 気液混合のための攪拌システムを開発。 内部循環システムにより、水素など高価なガス資源の使用量を削減し、コストダウンを実現します。 攪拌・混合プロセスの研究を続けて90年となるEKATOは、「攪拌のスペシャリスト」として プロセスの課題を解決します。 内部循環システムとは...

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    メーカー・取り扱い企業: エカート株式会社 日本支社

  • 『ビジネス改善支援』 製品画像

    『ビジネス改善支援』

    PR製品開発の期間短縮、意思決定の迅速化を実現。製品の企画・開発プロセスを…

    当社は、製品の企画・開発プロセスを最適化し、 業務の効率化などを実現する『ビジネス改善支援』を行っています。 より良い製品開発に必要な顧客要望の集約や管理、 企画から開発に至るプロジェクトの透明性の向上などを実現し、 製品開発の期間短縮や、意思決定の迅速化を支援します。 Atlassian TEAM TOUR Tokyo は、チームワークのイノベーションについて語り合う、年に一度のカンファレン...

    メーカー・取り扱い企業: INNOOV(イノーブ)株式会社 東京

  • 高アスペクト構造 トレンチパターンウェハ 『PT063』 製品画像

    高アスペクト構造 トレンチパターンウェハ 『PT063』

    深堀エッチング技術で高アスペクトトレンチパターンウェハを実現

    当社は先端の半導体技術によるテストウエハで、お客様の技術・製品開発を強力に支援しております。 (ベアSiウエハ/ 膜付ウエハ/パターンウエハ) トレンチパターンパターンウェハ『PT063』は、ボッシュプロセスによる深堀エッチング技術により高アスペクト構造を実現しております。 当社の標準レイアウトで、マスク寸法0.2µm~10µmのトレンチパターンを配置しており、最大アスペクト比は40~6...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フィルテック  本社

  • 『半導体・テストウェハサービス』のご紹介 製品画像

    『半導体・テストウェハサービス』のご紹介

    20年以上の実績と専門性で、お客様の技術革新を全面サポート

    当社は先進の半導体技術を背景に、テストウェハのソリューションを提供し、お客様の装置・材料・プロセスの評価・開発を総合的にサポートしております。 提供範囲は、ベアウェハから始まり、ブランケット膜付きウェハ、パターンウェハ、CMP評価ウェハ、プラズマチャージモニタウエハ、TSV評価ウェハ、電気特性評価ウェハ、MEMS混載ウェハまで、多岐にわたります。 私たちの強みは、半導体開発のエキスパー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フィルテック  本社

  • 300mm チャージアップモニタウェハ『PT013』 製品画像

    300mm チャージアップモニタウェハ『PT013』

    ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…

    当社は先進の半導体技術を背景に、テストウェハのソリューションを提供し、お客様の装置・材料・プロセスの評価・開発を総合的にサポートしております。 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能となります。 ウエハサイズは300m...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フィルテック  本社

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