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KNF プロセスポンプ【※関連カタログ進呈中】

PR脱炭素関連、新エネルギー関連の研究開発用プロセスポンプ！ CO2、水素…

脱炭素社会、新エネルギー開発において、従来のガスポンプでは対処しきれない多くの技術的課題があります。 KNFプロセスポンプは下記の特長を活かして技術的な課題解決に貢献します。燃料電池及び評価システムをはじめ、脱炭素関連や新エネルギー関連の研究開発企業や研究機関でご利用いただけます。【主な特長】 ◆コンタミフリー ◆豊富な接ガス材質 ◆加圧特化仕様　許容最大吐出圧 1.2 MPa ポンプ選定...
メーカー・取り扱い企業：株式会社ケーエヌエフ・ジャパン KNF JAPAN
【総合カタログ進呈】様々なポンプ製品と移送ソリューションをご提供

PR市場に特化した幅広い高性能ポンプをご用意。お客様の用途にカスタマイズし…

当カタログは、日本シーペックス株式会社で取り扱う、様々なポンプ製品と移送用途に合わせたソリューションをご紹介している総合カタログです。用途に合わせてご使用いただける各種ポンプやスマート移送テクノロジー「SCT」など各製品の特長や利点などを詳しく掲載。また、当社のシステムソリューション事例も掲載しております。製品選定の際に是非お役立てください。【掲載内容(抜粋)】 ■お客様に用途に...

メーカー・取り扱い企業：日本シーペックス株式会社
真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロールタッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロー...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。・ハロゲンランプヒーター：Max5...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース最高使用温度2000℃！還元雰囲…

◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成：チャンバー + 温度制御ユニット (B)上記最小構成(A) + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類） ◆基本仕様◆ ・ヒーター：C/Cコンポジット, PGコートC/Cコンポジット(カーボン炉）, タングステン(メタル炉) ・断熱材：グラファイトフェルト材(...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ PID温度コントロール：Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御：±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm（ガス種による） ◉ ロータリーポンプ付属...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置研究開発から小規模生産まで…

ジルコニアなど（*炉内設計により異なります）・チャンバー開閉：トップローディング、リニアドライブ駆動（又はダンパー付手動開閉）・到達真空度：1x10-2Pascal（空炉の場合）・真空ポンプ：ドライスクロールポンプ ・真空計：ワイドレンジ真空計大気圧〜10-9 mbar ・熱電対：Cタイプ熱電対（設計温度条件によってはKタイプを採用）・インターロック：チャンバー過昇温、ヒー...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロールタッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロー...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
◆Mini-BENCH-prismセミオート式超高温実験炉◆

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロールタッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロー...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

卓上小型サイズ実験炉・省スペース最高使用温度2000℃！還元雰囲…

◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成：チャンバー + 温度制御ユニット (B)上記最小構成(A) + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類） ◆基本仕様◆ ・ヒーター：C/Cコンポジット, PGコートC/Cコンポジット(カーボン炉）, タングステン(メタル炉) ・断熱材：グラファイトフェルト材(...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社