• 積層エレメント型スタティックミキサー『Nim』『Rim』 製品画像

    積層エレメント型スタティックミキサー『Nim』『Rim』

    PR配管内に設置するだけで流体を効率よく混合。配管へのねじ込み、フランジ間…

    当社は、配管内に設置するだけで高い混合能力を発揮する、 2種類の積層エレメント型スタティックミキサーを提供しています。 『Nim(ニップルミキサー)』は、配管にねじ込むだけで設置でき、 『Rim(リングミキサー)』は、フランジ部分での固定により、さらにスペースを抑えた設置が可能。 混合エレメント構造体による分流と合流の繰り返しで、 効率よく気液混合や二液混合、分散、均一化が行えま...

    • 01.jpg
    • 02.jpg
    • 03.jpg
    • 04.jpg
    • 05.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニクニ 本社、本社営業部、大阪営業所、名古屋営業所、福岡営業所

  • エンプラ精密部品一貫生産!半導体関連の需要増に対応!<加工事例> 製品画像

    エンプラ精密部品一貫生産!半導体関連の需要増に対応!<加工事例>

    PR金型設計・射出成形・切削加工の一貫生産体制で品質安定加工、大量生産が可…

    当社は、樹脂加工のスペシャリストとして金型の設計・製作、射出成形、 圧縮成形、切削、組立、検査、出荷まで一貫してお引き受けいたします。 この一貫体制システムにより、ものづくり工程のすべてをサポートしながら 品質の向上はもちろんコストダウンとスピーディな納期対応を実現しています。 品質管理は、3次元測定機を導入し、大量生産の依頼にも高い品質・精度を確保しています。 徹底した品質管理...

    • iidaTOP4(220×220).jpg
    • PEEKギア(220×220).jpg
    • 展示会(220×220).jpg
    • 射出成形品(220×220).png

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社飯田製作所 福島第2工場

  • 加圧RTA装置 製品画像

    加圧RTA装置

    基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!

    最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロセス特有の元素抜けを軽減 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • RTA装置 製品画像

    RTA装置

    トレイ搬送にも対応可能!優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

    『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MP...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
60件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2406_300x300m_bls_fe_ja_2 _33566.png
  • イプロス20240902_2 (2).jpg

PR