• 高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置 製品画像

    高圧ジェットで高速レジスト剥離!半導体製造用リフトオフ装置

    PR【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

    【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし! ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム (オプション) 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能! 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 3次元形状レーザ露光装置 ※開発中 製品画像

    3次元形状レーザ露光装置 ※開発中

    5軸ステージ制御による3次元形状へのマスクレスフォトリソグラフィを実現…

    『3次元形状レーザ露光装置』は、5軸ステージ(直進3軸、回転2軸)構成により 様々な形状へ微細パターニングが可能です。 半導体レーザによる直接露光を行いますので、メタルマスクが不要で、研究・開発の 時間短縮、予算低減へ貢献します。 また、専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込できます。 【特長】 ■5軸ステージ(直進3軸、回転2軸)構成 ■様々な形状...

    メーカー・取り扱い企業: ネオアーク株式会社 東京営業部

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