レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、B...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

多光子励起光造形装置『MPF-330』

材料が熱的な損傷を受けない！フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形…

『MPF-330』は、フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置です。 750～900nmの超短パルスレーザー光を励起光源として用いることにより、 紫外～可視領域に吸収を持つ物質の2光子励起が可能です。 従来の高出力レーザーによる光造形より高空間分解能で、 ナノスケールの光造形ができます。 【特長】 ■フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置 ■紫外～可視領域に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトサイエンス