高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

『シリコーンゴム表面摺動性処理』ゴム成形、さらさら触感

PRシリコンゴム表面に特殊処理することで貼り付き防止、ゴミ付着防止、摺動性…

シリコンゴム表面に特殊処理することで貼り付き防止、ゴミ付着防止、摺動性向上の3つの機能性を付与します。 ・従来の塗装方式と違い、シリコーン部品表面のシボや微細凹凸を消失させないで摺動性を付与できます。 ・シリコーンゴム部品でもサラサラ触感を付与できます。 ・黒色シリコーンゴム部品などは、皮脂やほこりが付着して汚れが目立ってしまいますが、貼り付いてしまい取り除くのが大変です。弊社の処理を行うと容易に...

メーカー・取り扱い企業： サンアロー株式会社

乾式散布装置「微粒子対応　分散・散布装置」

数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…

散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、エアーの切り替えのみで各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100mm×100mm〜300mm✕300mm程度のワークサイズに対応した、研究開発・試作用の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

乾式散布装置「ドライスペーサー散布装置」

数百nm〜数十μmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、散布装置…

ードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100〜200mm角程度の研究開発用途からG6サイズ等の量産装置まで対応します。（クラスターク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

乾式散布装置「卓上型　簡易散布装置」

数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…

散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、エアーの切り替えのみで各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100mm×100mm〜300mm✕300mm程度のワークサイズに対応した、研究開発・試作用の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）