高性能・高圧 多用途ポンプ 【プラステコ】 L.TEXシリーズ

PR小流量から大流量、水状から高粘度まで、様々な流体の定量送液ならプラステ…

用途によって選べるタイプ！！ ●ポンプ単体（装置組込式）　●制御部一体型 標準で最大40MPaまでの高圧送液に対応するプランジャ－ポンプです。 当社の主力製品である『超臨界不活性ガス定量供給装置』においても多数実績があります。 最大流量は 10mL/min ～ 1000mL/min と幅広く豊富な機種をご用意しておりますので、 研究・実験用途に適した小流量から量産向けの大流量まで、ご使用目的に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プラステコ 本社

後付け電動アシストユニット新製品『E-Drive Optima』

PR傾斜搬送や速度制御が可能に！高機能の電動アシストユニットE-Drive…

『E-Drive』は、最大総重量500kgの補助対応可能な高アシスト性能の 電動アシストユニットです。 今回は新シリーズのE-Drive Optimaが登場。 使い勝手はそのままに、傾斜搬送や速度制御にも対応しました。 負荷の高い重量物用台車の手押し作業でも、 当製品なら手元操作で簡単に操作 可能で、作業者の負担軽減・効率を向上させます。 　 【特長】 ■作業者の負担軽減・...

メーカー・取り扱い企業： テンテキャスター株式会社

JSM-IT800 電界放出形走査電子顕微鏡

今まで得られなかった情報の取得やお困りの測定への改善が期待できます。

日本電子株式会社 JSM-IT800 電界放出形走査電子顕微鏡は、高分解能観察を実現するための "インレンズショットキーPlus電界放出形電子銃" と次世代型電子光学制御システム "Neo Engine"、高速度元素マッピングを実現するために追求したGUI "SEM Center" に自社製EDSを組込んだシステムを共通のプラットフォームとしています。 SEMの対物...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

電子顕微鏡関連機器　電子線描画用パターン発生装置 SPG-724

お使いのSEMの機能を損なうことなく電子線描画が可能です。

描画装置になるわけです。 SEM本体の他に必要なものは、ビームのオンオフを行うブランキング装置、露光量を測定するための電流計、描画パターンをブランキング装置や偏向器におくるパターン発生器とそれらを制御するコンピュータとなります。 【特徴】 ○アドオンスタイルのEBリソグラフィ用パターン発生装置 →様々なタイプのSEMに取付けることが可能 ○市販CADの採用により浮かんだアイデアをすぐ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

卓上SEM（SNE-4500M Plus B）

ハイエンドモデルの卓上SEM

Mでは業界最高の分解能5nm（最大倍率 150,000x）を実現し、加速電圧は1kV~30kVまで使用可能です。低真空モー ド / 高真空モードの切り替え、二次電子像 / 反射電子像の取得、モーター制御の5軸ステージ、アパーチャーサイズの切り替え機能などが全て標準搭載されております。また、オプションでEDS検出器（元素分析）や冷却ステージなどの追加も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サイエンスラボラトリーズ

デジタルマイクロスコープ　「SDM2」

従来のズーム顕微鏡では実現できない高解像度

【特長】 ○ズーム倍率制御（１４段階） ○顕微鏡高さを変えずにそのまま拡大縮小が可能。 ○パソコン操作でＸＹ座標、ズーム倍率の制御が可能。 ○ＭＡＰ上から任意の座標に移動操作が可能。 ○自動ＸＹステージにより観察箇所...

メーカー・取り扱い企業： アローズエンジニアリング株式会社

細胞イメージングマルチモードリーダー『Cytation 1』

顕微鏡による画像の撮影、処理、解析機能を強化！分析結果を自動的に取得で…

【その他の特長】 ■手頃な価格のパッケージで高品質な画像を効率的に撮影できる ■20種類以上のフィルター/LEDカラーキューブにより、さまざまな色から選択可能 ■自動化と適切な環境の制御機能を備えた細胞向けの設計であり、生細胞アッセイに適している ■温度制御と振とう、およびCO2/O2制御により、長期間のカイネティクス研究の条件を安定化させる ■ペルチェ冷却モジュールにより、温...

メーカー・取り扱い企業： アジレント・テクノロジー株式会社

培養細胞タイムラプス観察装置　WSL-1800サイトウォッチャー

培養しながらのタイムラプス撮影に対応！防湿構造の小型デジタル顕微鏡！

場所を選ばないコンパクトサイズ ■CO2インキュベータ内で使用可能（防湿構造） ■簡単操作で培養条件下のタイムラプス撮影可能 ■500万画素カラーCMOSカメラ搭載 ■ノート・タブレットPC制御・画像保存 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： アトー株式会社

CIQTEK QDAFM Diamond III

CIQTEK 量子ダイヤモンド原子間力顕微鏡 Diamond III

CIQTEK QDAFM - Diamond III は、ダイヤモンドNVセンターとAFMのイメージング技術の両立による、磁気イメージング機器です。 ダイヤモンドプローブによる量子制御とスピンの検出により、サンプルの磁気特性が定量的かつ非侵襲で取得できます。 ナノスケールの空間分解能と超高検出感度を備えた QDAFM は、磁気テクスチャ、高密度磁気ストレージ、およびスピントロニ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エルエイシステムズ

ナノインデンター | 電顕装着型試験器

電顕に装着し荷重試験、電気試験、加温試験などを実現、単体可動モデルとS…

SEMなどに装着し、平らな試料表面に、ピラミッド型の圧子を押込み、ナノオーダーの高精度で変位、加重を制御、計測します。取得データから、極小領域での試料の硬度、弾性率等の機械特性を導出することができます。 弊社取り扱いの製品では、圧子の形状や動作を変えることで、圧縮、引張り、引掻き等様々な試験にも使用...

メーカー・取り扱い企業： 西華デジタルイメージ株式会社

ミニチュアエバポレータ

UHV対応の小型蒸発源です。モノレイヤー単位の蒸着レートで薄膜制御性に…

小型蒸発源です。電子衝撃加熱蒸発源の一種です。静電場収束によって熱陰極から発生する電子を蒸発材料に照射して蒸発を得ます。磁場収束型の電子衝撃加熱に比較して小型です。モノレイヤー単位の蒸着レートで薄膜制御性に優れる点が特徴です。...

メーカー・取り扱い企業： アドキャップバキュームテクノロジー株式会社

低電圧電子顕微鏡『LVEM25』

ナノ粒子の観察、スクリーニング用TEMとして世界中で使用されています

モードで迅速に画像化できます。 【主な技術的特長】 ■コンパクトデザイン ■特別な施設不要：さまざまな場所に設置可能 ■永久磁石レンズ：冷却不要 ■電解放出電子銃：高コントラスト ■制御装置とソフトウェア：完全な撮像制御　など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： FITリーディンテックス株式会社

共焦点イメージングリーダー『Cytation C10』

様々なラボに適した手頃な価格のベンチトップ型共焦点イメージャーをご紹介…

【その他の特長】 ■インキュベーションやCO2/O2制御などの環境制御およびモニタリングにより、生細胞イメージングを容易に実行 ■ムービーメーカーおよびカイネティクス解析ツールにより、タイムラプス実験を視覚化および分析可能 ■イメージングとマルチモー...

メーカー・取り扱い企業： アジレント・テクノロジー株式会社

試料研磨機『FORCIPOLシリーズ』手動＆自動研磨可能

試料研磨、組織観察、断面検査等に適した研磨機です。ヘッドのFORCIM…

、オプションを取り揃えております。特注製作も可能。 ●ヘッドは横方向に回転移動しますので、ベースの外に移動させれば手動研磨時も邪魔になりません。 ●自動供給器のDOSIMATはプログラム制御で正確な滴下量を管理できます。 ●後付けで自動機に仕様変更することも可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： ハルツォク・ジャパン株式会社

ナノ分解能ピエゾ位置決めステージ

ナノ分解能ピエゾ位置決めステージは世界中で、各種色々な分野で使用させて…

、顕微鏡や分析機器と組み合わせて位置合わせや測定に使用されます。これには、走査プローブ顕微鏡（例：原子間力顕微鏡）、ナノポジショニング、計測、生物学研究、マイクロエレクトロニクス、マイクロ操作、精密制御などの応用があります。 ...

メーカー・取り扱い企業： ワイヤード株式会社

高速高圧アンプ 「HDS600-6-SP」　

「HDS600シリーズ」の基本モジュール6チャンネルと、DCソース電源…

【特徴】 ◆ システム化が容易なモジュールタイプ ◆ リップルモニター機能搭載 ◆ 低リップル・高安定度 ◆ -600V～０V～＋600V連続可変 ◆ ±10Vアナログ外部信号により制御 ◆ RoHS対応...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社

立体電子顕微鏡『CT-SEM』

試料を傷めずに表面層を掘削可能！掘削面積は最大で2mm×2mmと非常に…

【特長】 ■有機系材料の表面をレーザーでアブレーションする ■アブレーションの際に殆ど熱を発生しないので材料を傷めない ■1回のアブレーション量は10nmから400nm程度まで連続的に制御可能 ■1回のアブレーション面積は最大で2mm×2mmと非常に広範囲 ■1秒あたり最大で40um以上の高速アブレーションも可能 ■200秒の画像の3Dデータ化であれば、2時間以内に取得可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社TCK