• DCブラシレスモータ用コントローラ 製品画像

    DCブラシレスモータ用コントローラ

    PRメカナムホイールを制御するサンプル動画あり!開発時間短縮に貢献します!

    『DCブラシレスモータ用コントローラ』は、AGV(無人搬送車)や 移動型ロボットなどのモータ制御の開発時間短縮に貢献します。 シングルまたはデュアルチャンネルタイプをそれぞれ「SBLシリーズ」「FBLシリーズ」「GBLシリーズ」でラインアップ、高回転対応機種もございます。 CAN通信にも対応するほか、ホールセンサやエンコーダなど多くのロータ位置検出センサに対応しており、サーボモータ制御も可能...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アキュレイトシステムズ 伊那事業所

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア 製品画像

    Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア

    最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSC…

    MOCVD(有機金属気相成長)装置とプロセスをコントロールするための最新のWindowsベースのSCADAパッケージを備えたMOCVD装置制御ソフトウエアです。最新の制御機能とデータロギング機能を有しており、他のソフトウエアにはないカスタマイズ性、操作性が優れています。Veeco, Thomas Swan, Aixtron社等のレガシーM...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • 多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】 製品画像

    多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

    コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

    インチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロード...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置 製品画像

    【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…

    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ(バラトロンゲージ)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, データ解析 【主仕様】 ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • CVD、IBDの成膜装置 製品画像

    CVD、IBDの成膜装置

    ヨーロッパ 発の技術!Leuven instruments装置の日本国…

    プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ:PE CVD(プラズマCVD) 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能 ・Ganistarシリーズ:IBD(イオンビーム堆積) 低温低圧条件で緻密で高品質な成膜が可能 ダブルイオン源構造となり、高精度な制御が可能 Real-timeでスペクトル分析機能...

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    メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社

  • 研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』 製品画像

    研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

    独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

    品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適 ■高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現 ■LIAの多点制御により、より...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

  • 研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』 製品画像

    研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

    独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

    品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適 ■高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現 ■LIAの多点制御により、より...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

  • Aera FC-DR980 デジタルマスフローコントローラ 製品画像

    Aera FC-DR980 デジタルマスフローコントローラ

    優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

    既存の主な制御方式および通信方式に合わせて使用するため、様々な出力形態に応じてアナログまたはデジタル制御を行います。本製品には、お客様のご要望に応じて、シングルガスモデル、マルチガス・マルチレンジモデルをご用意し...

    メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社

  • CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』 製品画像

    CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

    フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

    『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター 製品画像

    Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

    Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

    Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-situ温度モニターは高精度、高安定性を有する業界最高レベルの温度モニターです。 (1) 圧倒的な温度制御の精度と正確さ (2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮 (3) Run to Runの再現性が向上 (4) 様々なアプリケーションに役立つ単波長および二波長反射率オプション 標...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • 立体物用プラズマCVD装置 製品画像

    立体物用プラズマCVD装置

    高い汎用性を備えたシンプルな構造!独自のプラズマ制御方式を採用していま…

    『立体物用プラズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、 独自のプラズマ制御方式を採用しています。 チャンバー容積は1m3。 多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • ICPECVD『SI 500 D』 製品画像

    ICPECVD『SI 500 D』

    ICPパワーによるイオン密度の制御!低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

    『SI 500 D』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。 独自のPTSA200ICPソースによる10^12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現 ご用命の際は、当社...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • セトラ社 ウルトラクリーン圧力センサ モデル224シリーズ 製品画像

    セトラ社 ウルトラクリーン圧力センサ モデル224シリーズ

    特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサ

    セトラ社のモデル224は特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサです。  モデル224はパージ効果の高い流線型のセンサチャンバを持ち、ガスの流れによる瞬時の温度変化の条件下でも優れた安定性を実現するように設計されています。...

    メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部

  • Aera PI-980 プレッシャーインセンシティブMFC 製品画像

    Aera PI-980 プレッシャーインセンシティブMFC

    明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

    この画期的な技術プラットフォームは、従来の技術と比べて、応答性、ガス流量安定性、計測精度を向上させるとともに、リアルタイムプロセス制御において優れた性能を発揮します。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-980シリーズは、従来型のサーマル式の構造に、圧力センサ、温度セン...

    メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社

  • Aera Transformer デジタルマスフローコントローラ 製品画像

    Aera Transformer デジタルマスフローコントローラ

    コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

    することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を搭載して、精密なガスフロー制御を実現します。優れた信頼性と卓越した応答性、正確性、再現性を誇り、汎用性に富んだ、お客様が重点を置く価値や機能に合ったシングルガス対応ならびにマルチガス・マルチレンジ対応MFCを取り揃えています。...

    メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社

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