薄くて軽い！ ケイドン「超薄型ボールベアリング」

PRわずか4.76mmの断面寸法を実現。省スペース・軽量化により、設計自由…

ケイドンの『超薄型ボールベアリング』は断面寸法が小さく、省スペース化と軽量化を実現しており、設計の自由度が向上します。 内径は25.4~1016mm、断面寸法は4.76~25.4mmまで幅広くラインアップ。 4点接触型、アンギュラコンタクト型、深溝型があり、特殊環境での使用も可能です。 【特長】 ■専門メーカーとして量産体制を確立しており、短納期にも対応 ■ボールベアリングのため...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社木村洋行

新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

株式会社クオルテック(本社：大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社：滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

大気圧プラズマ装置　

大気圧Plasma装置の開発・製造・販売累計1200台以上の実績（20…

て簡便に使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物の出来ない常温表面乾燥 ■添加ガス種の変更により、マトリックス材...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」

従来比50％の性能UP！低N2消費（約45％削減）の大気圧プラズマ装置

ラズマソースとして簡便に使用できる ■パーティクルフリー ■排ガス処理も不要 ■処理表面への物理的、電気的、熱的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない ■有機表面、内部へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカルの生成により、窒...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ『Precise』シリーズ　※資料進呈中

【異種接合・接着剤レス直接接合】密着性・親水性などが向上！炭素繊維を高…

用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■反応性の高い酸素ラジカル粒...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方　※解説資料進呈

"大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…

【当社独自の装置特長（ダウンストリーム型）】 ■幅広、長尺物への均一処理（100ミリ～3000ミリ） ■半導体チップ上の処理も可能（処理後のトランジスタ特性変化なし） ■4nmのＬ＆Ｓでも絶縁破壊等の発生が無い ■ワーク内部の分子間架橋特性変化や分子切断の影響やダメージ発生がない ■Particle発生が...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質

大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現！バグフィルターにて捕獲…

子間架橋特性変化やダメージ発生がない ■放電電極内でのイオン加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い ■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減 ■半導体チップ上の処理も可能（処理後のトランジスタ特性変化なし<4nm以上のL/S>） ■プラズマ発生エリアとワーク間距離を最小限にする構造（特許）により、高性能化が実現 ※詳しくは資料をご覧くだ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置「AP Plasma　Precise II」

ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置

ソースとして使用できる ■装置がコンパクト(省スペース) ■排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への電気的、物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子特性変化がない（完全な高周波電力遮蔽） ■処理中のUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカル発...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置によるCFRP・長尺繊維束向けの高効率表面改質

CFRP、グラスファイバー、長尺繊維への表面処理

■活性ガス(種々のラジカル)の侵入部分全て処理ができる ■装置がコンパクト(省スペース) ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理中表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカル発生により繊維束内部...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

大気圧プラズマ装置による繊維束状用表面改質

大気圧プラズマ装置を用いた効率的な繊維束状用表面改質方法

スとして簡便に使用できる ■コンパクト(省スペース) ■親水処理では排ガス等の後処理も不要 ■処理表面への物理的ダメージがない(ダウンストリーム型) ■処理後の帯電がない(ダウンストリーム型) ■半導体素子上の処理でも素子性能変化がない ■処理表面へのUVダメージがない ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■プラズマによる精密乾燥（乾燥痕のない）ができる ■高密度プラズマの発生に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア