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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…
株式会社クオルテック(本社:大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社:滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クオルテック
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試料中のS(原子番号16)〜U(原子番号92)の多元素を同時に分析する…
・液体 ■X線発生部 ・照射方式:下面照射 ・X線管球:Rhターゲット ・電圧:15kV/31kV/50kV ・電流:最大1000μA可変 ・冷却方式空冷 ■X線検出 ・形式:Si半導体検出器 ・冷却方式:電気冷却+空冷(液化窒素不要) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 関西電力送配電株式会社 技術試験センター
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温度調整幅は、全温度領域±0.75℃!温度上昇時間は室温から200℃ま…
ク・ポリエチレン・ビニール等 の老化度試験用に試料回転機能を兼ね備えた試験装置。試料回転枠を 取り外せば、通常のオーブンとしても使用でき、幅広い用途での使用が可能。 また、温度調整回路に半導体の双方向制御素子を応用しており、どの 設定温度においても同じ温度調整制度が得られるようになっております。 【装置性能】 ■温度範囲:40℃~200℃ ■温度調整幅:全温度領域±0.75...
メーカー・取り扱い企業: 関西電力送配電株式会社 技術試験センター
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