【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

株式会社クオルテック(本社：大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社：滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

4波長高出力レーザーエンジン　『iChrome MLE』

MLE は異なる3つの波長の半導体レーザと1台のDPSS レーザーをコ…

iChrome MLE は異なる3つの波長の半導体レーザと1台のDPSS レーザーをコンパクトな筐体に一体化したマルチカラーレーザー光源です。各レーザは高い効率でファイバ結合され偏光面保存/SMファイバで出力されます。本体にはインテリジェンスなマ...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

コンパクト4色レーザーコンバイナ 『iChrome CLE』

効率的 ＆ コンパクト4色レーザーコンバイナ ：バイオフォトニクス＆顕…

されます。 405, 488, 561 及び 640 nm それぞれの波長において 最大50 mW のファイバー端出力が保証されています。561 nmではトプティカ社独自開発のFDDL(第二高調波半導体レーザー)技術が用いられています。全てのレーザーラインは最大1MHzの高速で直接変調が可能で、低消費電力、OFFの状態ではいわゆる”ゼロフォトン”に例えられる完全消灯"Complete OFF"が...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部