• 新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所 製品画像

    新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

    PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

    株式会社クオルテック(本社:大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社:滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クオルテック

  • 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

    • IPROS3391385136135994447_220x220.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 製作実績/半導体製造装置 関連部品 製品画像

    製作実績/半導体製造装置 関連部品

    最短半日見積り/金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を…

    (1)精密整列パレット(SUS430) ステンレス材を指定された為、バリが出やすかったのですが、 加工方法と刃物の選定で最小限に留め、仕上げ処置で規定通りにバリをゼロに仕上げました。 (2)ウェハー保管用ケース(4弗化テフロン/PTFE) 歪みも公差ズレも無く、しっかりとウェハーを整列させ、 尚且つ傷付ける事も無い完璧な仕上がりです。 (3)真空チャック用先端部(A5052) 傷、打痕不可で...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社 エージェンシーアシスト 京都本社 営業所(仙台・東京・埼玉・神奈川・浜松・愛知・岐阜・新潟・福井・奈良・兵庫・岡山・福岡)

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